Pemanas Substrat MOCVD, Elemen Pemanas Untuk MOCVD

Pemanas Substrat MOCVD, Elemen Pemanas Untuk Imej Pilihan MOCVD

Penerangan ringkas:

Grafit kimia

Kelebihan: Rintangan suhu tinggi

Permohonan:MOCVD/Relau Vakum/Zon Panas

Ketumpatan Pukal:1.68-1.91g/cm3

Kekuatan lentur: 30-46Mpa

Kerintangan: 7-12μΩm

Hantar e-mel kepada kami Muat turun sebagai PDF

Butiran Produk

Tag Produk

Pemanas Substrat MOCVD, Elemen Pemanas Untuk MOCVD

Pemanas grafit:
Komponen pemanas grafit digunakan dalam relau suhu tinggi dengan suhu mencapai 2200 darjah pada persekitaran vakum dan 3000 darjah dalam persekitaran gas ternyahoksida dan dimasukkan.
Ciri utama pemanas grafit:
1. keseragaman struktur pemanasan.
2. kekonduksian elektrik yang baik dan beban elektrik yang tinggi.
3. rintangan kakisan.
4. kebolehoksidaan.
5. ketulenan kimia yang tinggi.
6. kekuatan mekanikal yang tinggi.
Kelebihannya ialah cekap tenaga, nilai tinggi dan penyelenggaraan yang rendah.
Kami boleh menghasilkan bekas grafit anti-pengoksidaan dan jangka hayat yang panjang, acuan grafit dan semua bahagian pemanas grafit.
Parameter utama pemanas grafit:

Spesifikasi Teknikal	VET-M3
Ketumpatan Pukal (g/cm3)	≥1.85
Kandungan Abu (PPM)	≤500
Kekerasan Pantai	≥45
Rintangan Khusus (μ.Ω.m)	≤12
Kekuatan lentur (Mpa)	≥40
Kekuatan Mampatan (Mpa)	≥70
Maks. Saiz Bijirin (μm)	≤43
Pekali Pengembangan Terma Mm/°C	≤4.4*10-6

Pemanas grafit untuk relau elektrik mempunyai sifat rintangan haba, rintangan pengoksidaan, kekonduksian elektrik yang baik dan keamatan mekanikal yang lebih baik. Kami boleh mesin pelbagai jenis pemanas grafit mengikut reka bentuk pelanggan.