SiC Coating Graphite MOCVD Wafer Carriers Susceptors

ລາຍລະອຽດສັ້ນ:

VET Energy SiC Coated MOCVD Susceptor ສໍາລັບການເຕີບໂຕຂອງ Epitaxial ແມ່ນຜະລິດຕະພັນທີ່ມີປະສິດທິພາບສູງທີ່ຖືກອອກແບບມາເພື່ອສະຫນອງການປະຕິບັດທີ່ສອດຄ່ອງແລະເຊື່ອຖືໄດ້ໃນໄລຍະເວລາທີ່ຍາວນານ. ມັນມີຄວາມຕ້ານທານຄວາມຮ້ອນທີ່ດີເລີດແລະຄວາມເປັນເອກະພາບຂອງຄວາມຮ້ອນ, ຄວາມບໍລິສຸດສູງ, ການຕໍ່ຕ້ານການເຊາະເຈື່ອນ, ເຮັດໃຫ້ມັນເປັນການແກ້ໄຂທີ່ສົມບູນແບບສໍາລັບຄໍາຮ້ອງສະຫມັກການປຸງແຕ່ງ wafer.

ສົ່ງອີເມວຫາພວກເຮົາ ດາວໂຫຼດເປັນ PDF

ລາຍລະອຽດຜະລິດຕະພັນ

ປ້າຍກຳກັບສິນຄ້າ

SiC coating graphite MOCVD Wafer carriers/susceptor

ທຸກໆ susceptors ຂອງພວກເຮົາແມ່ນເຮັດດ້ວຍ graphite isostatic ທີ່ມີຄວາມເຂັ້ມແຂງສູງ. ໄດ້ຮັບຜົນປະໂຫຍດຈາກຄວາມບໍລິສຸດສູງຂອງ graphites ຂອງພວກເຮົາ - ພັດທະນາໂດຍສະເພາະສໍາລັບຂະບວນການທີ່ທ້າທາຍເຊັ່ນ: epitaxy, ການຂະຫຍາຍຕົວໄປເຊຍກັນ, ການປູກຝັງ ion ແລະ etching plasma, ເຊັ່ນດຽວກັນກັບການຜະລິດຊິບ LED.

ຄຸນນະສົມບັດຂອງຜະລິດຕະພັນຂອງພວກເຮົາ:

1. ການຕໍ່ຕ້ານການຜຸພັງຂອງອຸນຫະພູມສູງເຖິງ 1700 ℃.
2. ຄວາມບໍລິສຸດສູງແລະຄວາມສອດຄ່ອງຂອງຄວາມຮ້ອນ
3. ການຕໍ່ຕ້ານ corrosion ທີ່ດີເລີດ: ອາຊິດ, alkali, ເກືອແລະ reagents ອິນຊີ.
4. ຄວາມແຂງສູງ, ພື້ນຜິວຫນາແຫນ້ນ, ອະນຸພາກລະອຽດ.
5. ຊີວິດການບໍລິການທີ່ຍາວນານແລະທົນທານຫຼາຍ

CVD SiC薄膜基本物理性能 ຄຸນສົມບັດທາງກາຍະພາບພື້ນຖານຂອງ CVD SiCການເຄືອບ
性质 / ຊັບສິນ	典型数值 / ມູນຄ່າປົກກະຕິ
晶体结构 / ໂຄງປະກອບການໄປເຊຍກັນ	ໄລຍະ FCC β多晶，主要为（111) 取向
密度 / ຄວາມຫນາແຫນ້ນ	3.21 g/cm³
硬度 / ຄວາມແຂງ	2500 维氏硬度 (ໂຫຼດ 500g)
晶粒大小 / ເມັດ SiZe	2-10 ມມ
纯度 / ຄວາມບໍລິສຸດທາງເຄມີ	99.99995%
热容 / ຄວາມອາດສາມາດຄວາມຮ້ອນ	640 J·kg^-1· ຄ^-1
升华温度 / ອຸນຫະພູມ sublimation	2700℃
抗弯强度 / ຄວາມເຂັ້ມແຂງ Flexural	415 MPa RT 4 ຈຸດ
杨氏模量 / Modulus ຂອງຫນຸ່ມ	430 Gpa 4pt ໂຄ້ງ, 1300 ℃
导热系数 / ຄວາມຮ້ອນລການນໍາ	300W·m^-1· ຄ^-1
热膨胀系数 / ການຂະຫຍາຍຄວາມຮ້ອນ (CTE)	4.5×10^-6K^-1

ພະລັງງານ VET ແມ່ນຜູ້ຜະລິດທີ່ແທ້ຈິງຂອງຜະລິດຕະພັນ graphite ແລະ silicon carbide ທີ່ກໍາຫນົດເອງດ້ວຍການເຄືອບທີ່ແຕກຕ່າງກັນເຊັ່ນ: ການເຄືອບ SiC, ການເຄືອບ TaC, ການເຄືອບກາກບອນແກ້ວ, ການເຄືອບກາກບອນ pyrolytic, ແລະອື່ນໆ, ສາມາດສະຫນອງພາກສ່ວນທີ່ກໍາຫນົດເອງຕ່າງໆສໍາລັບອຸດສາຫະກໍາ semiconductor ແລະ photovoltaic.

ທີມງານດ້ານວິຊາການຂອງພວກເຮົາມາຈາກສະຖາບັນຄົ້ນຄ້ວາພາຍໃນປະເທດຊັ້ນນໍາ, ສາມາດສະຫນອງການແກ້ໄຂອຸປະກອນການເປັນມືອາຊີບຫຼາຍສໍາລັບທ່ານ.

ພວກເຮົາພັດທະນາຂະບວນການທີ່ກ້າວຫນ້າຢ່າງຕໍ່ເນື່ອງເພື່ອສະຫນອງວັດສະດຸທີ່ກ້າວຫນ້າທາງດ້ານຫຼາຍ, ແລະໄດ້ເຮັດວຽກອອກເຕັກໂນໂລຢີສິດທິບັດສະເພາະ, ເຊິ່ງສາມາດເຮັດໃຫ້ຄວາມຜູກພັນລະຫວ່າງການເຄືອບແລະ substrate ເຄັ່ງຄັດຂື້ນແລະມີຄວາມສ່ຽງຫນ້ອຍທີ່ຈະ detachment.

ຍິນດີຕ້ອນຮັບທ່ານໄປຢ້ຽມຢາມໂຮງງານຜະລິດຂອງພວກເຮົາຢ່າງອົບອຸ່ນ, ຂໍໃຫ້ມີການສົນທະນາຕື່ມອີກ!