SiC Beschichtete Graphite Halfmoon Deel Fir Silicon Carbide Epitaxial Equipement

Kuerz Beschreiwung:

Produit Aféierung an Notzung: Connected Quarz Rouer, kann Gas duerchgoen der Schacht Basis Rotatioun ze fueren, Temperatur Kontroll

Apparat Plaz vum Produkt: an der Reaktiounskammer, net am direkte Kontakt mat der Wafer

Main downstream Produkter: Muecht Apparater

Main Terminal Maart: nei Energie Gefierer

 


Produit Detailer

Produit Tags

SiC Beschichtete Grafit Halfmoon Deelis a SchlësselKomponent benotzt an semiconductor Fabrikatioun Prozesser, besonnesch fir SiC epitaxial Equipement.Mir benotzen eis patentéiert Technologie fir den Hallefmound Deel mat ze maachenextrem héich Rengheet,guttBeschichtungUniformitéitan eng excellent Service Liewen, sou wéihéich chemesch Resistenz an thermesch Stabilitéit Eegeschaften.

VET Energy ass denrealen Hiersteller vu personaliséierte Graphit a Siliziumkarbidprodukter mat CVD Beschichtung,liwweren kënnenverschiddepersonaliséiert Deeler fir Hallefleit- a Photovoltaikindustrie. OÄr technesch Equipe kënnt aus Top Gewalt Fuerschung Institutiounen, kann méi professionell Material Léisungen biddenfir dech.

Mir entwéckelen kontinuéierlech fortgeschratt Prozesser fir méi fortgeschratt Materialien ze bidden,anhunn eng exklusiv patentéiert Technologie ausgeschafft, déi d'Verbindung tëscht der Beschichtung an dem Substrat méi enk a manner ufälleg fir Ofdreiwung maache kann.

FEatures vun eise Produkter:

1. Héich Temperatur Oxidatioun Resistenz bis 1700.
2. Héich Rengheet anthermesch Uniformitéit
3. Exzellent Korrosiounsbeständegkeet: Säure, Alkali, Salz an organesch Reagenz.
4. Héich Hardness, kompakt Uewerfläch, fein Partikel.
5. Méi laang Liewensdauer a méi haltbar

CVD SiC薄膜基本物理性能

Basis kierperlech Eegeschafte vun CVD SiCBeschichtung

性质 / Immobilie

典型数值 / Typesch Wäert

晶体结构 / Kristallstruktur

FCC β Phase多晶,主要为(111) 取向

密度 / Dicht

3,21 g/cm³

硬度 / Hardness

2500 维氏硬度(500g Belaaschtung)

晶粒大小 / Grain Gréisst

2 ~ 10 μm

纯度 / Chemesch Rengheet

99,99995%

热容 / Hëtzt Kapazitéit

640 jkg-1·K-1

升华温度 / Sublimatioun Temperatur

2700 ℃

抗弯强度 / Flexural Kraaft

415 MPa RT 4-Punkt

杨氏模量 / Young's Modulus

430 Gpa 4pt Béi, 1300 ℃

导热系数 / ThermlKonduktivitéit

300 W·m-1·K-1

热膨胀系数 / Thermal Expansioun (CTE)

4,5x10-6K-1

1

2

Wëllkomm Iech häerzlech op eis Fabréck ze besichen, loosst eis weider Diskussioun hunn!

研发团队

 

生产设备

 

公司客户


  • virdrun:
  • Nächste:

  • WhatsApp Online Chat!