PECVD Luede Schacht Oflagerung Graphite Schacht

PECVD Loading Schacht Oflagerung Graphite Schacht Featured Image

Kuerz Beschreiwung:

VET Energy's PECVD Loading Tray ass entwéckelt fir sécher a souguer Ënnerstëtzung fir Wafere während der Oflagerung ze bidden, d'Konsistenz an d'Qualitéit vum Oflagerungsprozess ze verbesseren. Mat senger exzellenter Hëtztbeständegkeet hëlleft de Graphite-Schacht e kontrolléierten Ëmfeld an de PECVD-Kammeren z'erhalen, d'Risiko vu Kontaminatioun ze reduzéieren an eng héich Prozesseffizienz ze garantéieren.

Schéckt E-Mail un eis Download als PDF

Produit Detailer

Produit Tags

VET Energy PECVD Luede Schacht ass e Präzisiounsträger entworf fir PECVD (Plasma verstäerkte chemesch Dampdepositioun) Prozess. Dës héichqualitativ Oflagerungsgrafit Schacht ass aus héich Rengheet, héich Dicht Grafitmaterial gemaach. Et huet excellent héich Temperatur Resistenz, corrosion Resistenz, dimensional Stabilitéit an aner Charakteristiken. Et kann eng stabil Carrier Plattform fir PECVD Prozess ubidden an d'Uniformitéit an d'Flaachheet vun der Filmdepositioun garantéieren.

VET Energy PECVD Luedebehälter gi wäit an Hallefleit, Photovoltaik, LED an aner Felder benotzt. Zum Beispill:

▪ Semiconductor: PECVD-Prozess fir Hallefleitmaterialien wéi Siliziumwaferen an Epitaxialwaferen.

▪ Photovoltaik: PECVD-Prozess fir Solarzell-Dënnfilmer.

▪ LED: PECVD Prozess fir LED Chips.

Produit Virdeeler

▪Filmqualitéit verbesseren:Garantéiert eenheetlech Filmdepositioun a verbessert d'Filmqualitéit.

▪Ausrüstung Liewen verlängeren:Excellent corrosion Resistenz, verlängeren de Service Liewen vun PECVD Equipement.

▪Produktiounskäschte reduzéieren:Héich-Qualitéit GRAPHITE Schacht kann Schrott Taux reduzéieren an Produktioun Käschten reduzéieren.

Graphitmaterial aus SGL:

Typesch Parameter: R6510
Index	Test Norm	Wäert	Eenheet
Duerchschnëtt Kärgréisst	ISO 13320	10	μm
Bulk Dicht	DIN IEC 60413/204	1.83	g/cm³
Open Porositéit	DIN 66133	10	%
Mëttelméisseg Pore Gréisst	DIN 66133	1.8	μm
Permeabilitéit	DIN 51935	0,06	cm²/s
Rockwell Hardness HR5/100	DIN IEC 60413/303	90	HR
Spezifesch elektresch Resistivitéit	DIN IEC 60413/402	13	μΩm
Flexural Kraaft	DIN IEC 60413/501	60	MPa
Kompressiv Kraaft	DIN 51910	130	MPa
Young d'Modul	DIN 51915	11,5 × 10³	MPa
Thermesch Expansioun (20-200 ℃)	DIN 51909	4.2x10^-6	K^-1
Wärmekonduktivitéit (20 ℃)	DIN 51908	105	Wm^-1K^-1

Et ass speziell fir héicheffizient Solarzellenfabrikatioun entworf, ënnerstëtzt G12 grouss Waferveraarbechtung. Optimiséiert Carrier Design erhéicht d'Duerchsatz wesentlech, wat méi héich Ausbezuelungsraten a méi niddereg Produktiounskäschte erméiglecht.

Artikel	Typ	Zuel wafer Carrier
PEVCD Grephite Boot - D'156 Serie	156-13 grephite Boot	144
	156-19 grephit Boot	216
	156-21 grephit Boot	240
	156-23 Grafit Boot	308
PEVCD Grephite Boot - D'125 Serie	125-15 grephite Boot	196
	125-19 grephite Boot	252
	125-21 grphite Boot	280