PECVD Graphite Wafer Ënnerstëtzung

Kuerz Beschreiwung:

Entworf fir Präzisioun a Leeschtung, VET Energy's Graphite Wafer Support ass dat idealt Material fir ze benotzen an fortgeschratt Waferveraarbechtung, wou héich thermesch Stabilitéit a konsequent Leeschtung kritesch sinn. Egal ob Dir mat Hallefleitwaferen oder aner delikate Substrate schafft, dës qualitativ héichwäerteg Graphit-Ënnerstëtzung wäert Är Prozessverlässegkeet a Produktqualitéit verbesseren, sou datt et en onverzichtbare Bestanddeel fir modern Fabrikatioun mécht.

Schéckt E-Mail un eis Download als PDF

Produit Detailer

Produit Tags

VET Energy PECVD Prozess GRAPHITE Wafer Ënnerstëtzung ass e Kär consumable entworf fir PECVD (Plasma verstäerkte chemesch Damp Oflagerung) Prozess. Dëst Produkt ass aus héich-Rengheet, héich-Dicht GRAPHITE Material gemaach, mat excellent héich Temperatur Resistenz, corrosion Resistenz, Dimensioun Stabilitéit an aner Charakteristiken, kann eng stabil Ënnerstëtzung Plattform fir PECVD Prozess ginn, fir d'Uniformitéit an flatness vun Film Oflagerung ze garantéieren.

D'"Grafit Support" Design vun VET Energy GRAPHITE Wafer Ënnerstëtzung kann net nëmmen effikass Ënnerstëtzung der wafer, mä och thermesch Stabilitéit an der héijer Temperatur an héich Drock PECVD Ëmfeld ubidden fir d'Stabilitéit vum Prozess ze garantéieren.

VET Energy PECVD Prozess Grafit wafer Ënnerstëtzung huet déi folgend Charakteristiken:

▪Héich Rengheet:extrem nidderegen Gëftstoffgehalt, vermeit Kontaminatioun vum Film, fir d'Qualitéit vum Film ze garantéieren.

▪Héich Dicht:héich Dicht, héich mechanesch Kraaft, kann héich Temperatur an héich Drock PECVD Ëmfeld widderstoen.

▪Gutt Dimensiounsstabilitéit:kleng Dimensiounsännerungen bei héijer Temperatur fir d'Stabilitéit vum Prozess ze garantéieren.

▪Exzellent thermesch Konduktivitéit:Transfert effektiv Hëtzt fir Wafer Iwwerhëtzung ze vermeiden.

▪Staark Korrosiounsbeständegkeet:Kënnen Erosioun duerch verschidde korrosive Gase a Plasma widderstoen.

▪Benotzerdefinéiert Service:Graphite Ënnerstëtzung Dëscher vu verschiddene Gréissten a Formen kënnen no Clientsbedürfnisser personaliséiert ginn.

Graphitmaterial aus SGL:

Typesch Parameter: R6510
Index	Test Norm	Wäert	Eenheet
Duerchschnëtt Kärgréisst	ISO 13320	10	μm
Bulk Dicht	DIN IEC 60413/204	1.83	g/cm³
Open Porositéit	DIN 66133	10	%
Mëttelméisseg Pore Gréisst	DIN 66133	1.8	μm
Permeabilitéit	DIN 51935	0,06	cm²/s
Rockwell Hardness HR5/100	DIN IEC 60413/303	90	HR
Spezifesch elektresch Resistivitéit	DIN IEC 60413/402	13	μΩm
Flexural Kraaft	DIN IEC 60413/501	60	MPa
Kompressiv Kraaft	DIN 51910	130	MPa
Young d'Modul	DIN 51915	11,5 × 10³	MPa
Thermesch Expansioun (20-200 ℃)	DIN 51909	4.2x10^-6	K^-1
Wärmekonduktivitéit (20 ℃)	DIN 51908	105	Wm^-1K^-1

Et ass speziell fir héicheffizient Solarzellenfabrikatioun entworf, ënnerstëtzt G12 grouss Waferveraarbechtung. Optimiséiert Carrier Design erhéicht d'Duerchsatz wesentlech, wat méi héich Ausbezuelungsraten a méi niddereg Produktiounskäschte erméiglecht.

Artikel	Typ	Zuel wafer Carrier
PEVCD Grephite Boot - D'156 Serie	156-13 grephite Boot	144
	156-19 grephit Boot	216
	156-21 grephit Boot	240
	156-23 Grafit Boot	308
PEVCD Grephite Boot - D'125 Serie	125-15 grephite Boot	196
	125-19 grephite Boot	252
	125-21 grphite Boot	280