4 Inch Gaas Wafer

Brevis descriptio:

VET Energy 4 inch GaAs laganum est semiconductor castitatis summus substratus insignis suis excellentibus electronicis proprietatibus, faciens eam optimam electionem pro amplis applicationibus. VET Energia technicis cristallinis provectis utitur ad producendum Gaas lagana cum eximia uniformitate, demissa densitate, et accurata dopingere gradus.


Product Detail

Product Tags

4 Inch GaAs Wafer ex VET Energy materia essentialis est summae velocitatis et machinarum optoelectronic, inter RF ampliatores, LEDs et cellulas solares. Haec lagana notae sunt propter mobilitatem et facultatem electronicorum altam operandi in frequentiis superioribus, et facit ea clavis componentis in applicationibus semiconductoris provectis. VET Energia praestat summo qualitas Gaas lagana cum defectibus aequabili crassitudine et minimis, apta ad varias processus fabricationis exigendas.

Hae 4 Unciae GaAs Wafers compatiuntur cum variis materiis semiconductoribus ut Si Wafer, SiC Substratum, SOI Wafer et SiN Substratum, faciens eas versatiles ad integrationem in varias architecturas fabricandas. Sive ad productionem Epi Wafer sive in parte materiae sectionis sicut Gallium Oxide Ga2O3 et AlN Wafer adhibita, certum fundamentum praebent electronicarum generationis proximae. Praeterea lagana plene componi possunt cum systematis tractandis Cassette fundatis, operationes lenis in vestigationibus et in ambitu fabricandis praecipuo volumine praestando.

VET Energy offert portfolio substratorum semiconductoris comprehensivam, inter Si Wafer, SiC Substratum, SOI Wafer, SiN Substratum, Epi Wafer, Gallium Oxide Ga2O3, et AlN Wafer. Nostrae variae productorum lineae caterae ad necessitates applicationum variarum electronicarum, a potentia electronicarum ad RF et optoelectronics.

VET Energy offert lagana customizabilia GaAs obviam tuis certis requisitis, inter varias dopingens gradus, orientationes et superficies. Nostra sollertia turma technicam sustentationem praebet et post-venditionem servitutis ad effectum tuum curet.

6页-36
6页-35

WAFERING SPECIFICATIONS

*n-Pm=n-type Pm-Grade, n-Ps=n-type Ps-Grade, Sl=Semi-lnsulating

Item

8-Inch

6-Inch

4-Inch

nP

n-Pm

n-Ps

SI

SI

TTV(GBIR)

≤6um

≤6um

Arcum (GF3YFCD) -Absolute Value

≤15μm

≤15μm

≤25μm

≤15μm

Warp(GF3YFER)

≤25μm

≤25μm

≤40μm

≤25μm

LTV(SBIR)-10mmx10mm

<2μm

Azymum Edge

Beveling

AEQUOR TERMINUS

*n-Pm=n-type Pm-Grade, n-Ps=n-type Ps-Grade, Sl=Semi-lnsulating

Item

8-Inch

6-Inch

4-Inch

nP

n-Pm

n-Ps

SI

SI

Superficiem Conclusio

Duplex latus Poloniae Optical, Si- Face CMP

SurfaceRoughness

(10um x 10um) Si-FaceRa≤0.2nm
C-Face Ra≤ 0.5nm

(5umx5um) Si-Face Ra≤0.2nm
C-Face Ra≤0.5nm

Ora Chips

Nulla permittitur (longitudo et width≥0.5mm)

Indents

nemo licet

Scalpit (Si-Fac)

Qty.≤5, Cumulativo
Longitudo lagana diametri

Qty.≤5, Cumulativo
Longitudo lagana diametri

Qty.≤5, Cumulativo
Longitudo lagana diametri

Cracks

nemo licet

Ore exclusio

3mm

tech_1_2_size
(2)

  • Priora:
  • Next:

  • Whatsapp Online Chat!