Supporto wafer di grafite PECVD

Immagine in evidenza del supporto per wafer di grafite PECVD

Breve descrizione:

Progettato per garantire precisione e prestazioni, il supporto per wafer in grafite di VET Energy è il materiale ideale per l'uso nella lavorazione avanzata dei wafer, dove l'elevata stabilità termica e prestazioni costanti sono fondamentali. Che tu stia lavorando con wafer semiconduttori o altri substrati delicati, questo supporto in grafite di alta qualità migliorerà l'affidabilità del processo e la qualità del prodotto, rendendolo un componente indispensabile per la produzione moderna.

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Dettagli del prodotto

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Il supporto per wafer di grafite del processo PECVD di VET Energy è un materiale di consumo principale progettato per il processo PECVD (deposizione chimica in fase vapore potenziata dal plasma). Questo prodotto è realizzato in materiale di grafite di elevata purezza e alta densità, con eccellente resistenza alle alte temperature, resistenza alla corrosione, stabilità dimensionale e altre caratteristiche, può fornire una piattaforma di supporto stabile per il processo PECVD, per garantire l'uniformità e la planarità della deposizione del film.

Il design del "supporto di grafite" del supporto wafer di grafite di VET Energy può non solo supportare efficacemente il wafer, ma anche fornire stabilità termica nell'ambiente PECVD ad alta temperatura e alta pressione per garantire la stabilità del processo.

Il supporto del wafer di grafite di processo VET Energy PECVD ha le seguenti caratteristiche:

▪Elevata purezza:contenuto di impurità estremamente basso, evitare la contaminazione del film, per garantire la qualità del film.

▪Alta densità:alta densità, elevata resistenza meccanica, può resistere ad ambienti PECVD ad alta temperatura e alta pressione.

▪Buona stabilità dimensionale:piccole variazioni dimensionali ad alta temperatura per garantire la stabilità del processo.

▪Eccellente conduttività termica:trasferire efficacemente il calore per prevenire il surriscaldamento del wafer.

▪Forte resistenza alla corrosione:In grado di resistere all'erosione di vari gas corrosivi e plasma.

▪Servizio personalizzato:Tavoli di supporto in grafite di diverse dimensioni e forme possono essere personalizzati in base alle esigenze del cliente.

Materiale in grafite di SGL:

Parametro tipico: R6510
Indice	Norma di prova	Valore	Unità
Granulometria media	ISO 13320	10	µm
Densità apparente	DIN CEI 60413/204	1.83	g/cm³
Porosità aperta	DIN66133	10	%
Dimensione media dei pori	DIN66133	1.8	µm
Permeabilità	DIN 51935	0,06	cm²/s
Durezza Rockwell HR5/100	DIN IEC60413/303	90	HR
Resistività elettrica specifica	DIN CEI 60413/402	13	μΩm
Resistenza alla flessione	DIN CEI 60413/501	60	MPa
Resistenza alla compressione	DIN 51910	130	MPa
Modulo di Young	DIN 51915	11,5×10³	MPa
Dilatazione termica (20-200 ℃)	DIN 51909	4.2X10^-6	K^-1
Conduttività termica (20℃)	DIN 51908	105	Wm^-1K^-1

È specificamente progettato per la produzione di celle solari ad alta efficienza, supportando l'elaborazione di wafer G12 di grandi dimensioni. Il design ottimizzato del supporto aumenta significativamente la produttività, consentendo tassi di rendimento più elevati e costi di produzione inferiori.

Articolo	Tipo	Porta wafer numerico
Barca in PEVCD Grephite - La serie 156	156-13 barca in grefite	144
	156-19 barca in grefite	216
	156-21 barca in grefite	240
	156-23 barchetta in grafite	308
Barca in PEVCD Grephite - La serie 125	Barca in grefite 125-15	196
	125-19 barca in grefite	252
	Barca in grafite 125-21	280