Energia IFPIl supporto in grafite del processo PECVD è un materiale di consumo di alta qualità realizzato su misura per il processo PECVD (deposizione chimica in fase vapore potenziata dal plasma). Questo supporto in grafite è realizzato in materiale di grafite di elevata purezza e alta densità, con eccellente resistenza alle alte temperature, resistenza alla corrosione, stabilità dimensionale e altre caratteristiche, può fornire una piattaforma di supporto stabile per il processo PECVD, per garantire l'uniformità e la planarità del film sottile deposizione.
I supporti in grafite per il processo PECVD hanno le seguenti caratteristiche:
▪ Elevata purezza: contenuto di impurità estremamente basso, che evita la contaminazione della pellicola e ne garantisce la qualità.
▪ Alta densità: alta densità, elevata resistenza meccanica, in grado di resistere ad ambienti PECVD ad alta temperatura e alta pressione.
▪ Buona stabilità dimensionale: piccola variazione dimensionale ad alta temperatura, garantendo stabilità del processo.
▪ Eccellente conduttività termica: trasferisce efficacemente il calore per prevenire il surriscaldamento del wafer.
▪ Forte resistenza alla corrosione: in grado di resistere all'erosione di vari gas corrosivi e plasma.
▪ Servizio personalizzato: supporti in grafite di diverse dimensioni e forme possono essere personalizzati in base alle esigenze del cliente.
Materiale in grafite di SGL:
Parametro tipico: R6510 | |||
Indice | Norma di prova | Valore | Unità |
Granulometria media | ISO 13320 | 10 | µm |
Densità apparente | DIN CEI 60413/204 | 1.83 | g/cm3 |
Porosità aperta | DIN66133 | 10 | % |
Dimensione media dei pori | DIN66133 | 1.8 | µm |
Permeabilità | DIN 51935 | 0,06 | cm²/s |
Durezza Rockwell HR5/100 | DIN IEC60413/303 | 90 | HR |
Resistività elettrica specifica | DIN CEI 60413/402 | 13 | μΩm |
Resistenza alla flessione | DIN CEI 60413/501 | 60 | MPa |
Resistenza alla compressione | DIN 51910 | 130 | MPa |
Modulo di Young | DIN 51915 | 11,5×10³ | MPa |
Dilatazione termica (20-200 ℃) | DIN 51909 | 4.2X10-6 | K-1 |
Conduttività termica (20℃) | DIN 51908 | 105 | Wm-1K-1 |
È specificamente progettato per la produzione di celle solari ad alta efficienza, supportando l'elaborazione di wafer G12 di grandi dimensioni. Il design ottimizzato del supporto aumenta significativamente la produttività, consentendo tassi di rendimento più elevati e costi di produzione inferiori.
Articolo | Tipo | Porta wafer numerico |
Barca in PEVCD Grephite - La serie 156 | 156-13 barca in grefite | 144 |
156-19 barca in grefite | 216 | |
156-21 barca in grefite | 240 | |
156-23 barchetta in grafite | 308 | |
Barca in PEVCD Grephite - La serie 125 | Barca in grefite 125-15 | 196 |
125-19 barca in grefite | 252 | |
Barca in grafite 125-21 | 280 |