CVD-SiCpremaz ima karakteristike ujednačene strukture, kompaktnog materijala, otpornosti na visoke temperature, otpornosti na oksidaciju, visoke čistoće, otpornosti na kiseline i lužine i organskog reagensa, sa stabilnim fizičkim i kemijskim svojstvima.

U usporedbi s grafitnim materijalima visoke čistoće, grafit počinje oksidirati na 400C, što će uzrokovati gubitak praha zbog oksidacije, što će rezultirati zagađenjem okoliša perifernim uređajima i vakuumskim komorama, te povećati nečistoće u okolišu visoke čistoće.

Međutim, SiC premaz može održati fizičku i kemijsku stabilnost na 1600 stupnjeva, naširoko se koristi u modernoj industriji, posebno u industriji poluvodiča.

Naša tvrtka pruža usluge procesa prevlačenja SiC metodom CVD na površini grafita, keramike i drugih materijala, tako da posebni plinovi koji sadrže ugljik i silicij reagiraju na visokoj temperaturi kako bi se dobile molekule SiC visoke čistoće, molekule taložene na površini presvučenih materijala, formiranje SIC zaštitnog sloja. Formirani SIC je čvrsto vezan za grafitnu bazu, dajući grafitnoj bazi posebna svojstva, čineći tako površinu grafita kompaktnom, bez poroznosti, otpornom na visoke temperature, otpornošću na koroziju i oksidaciju.

Glavne karakteristike:

1. Otpornost na oksidaciju pri visokim temperaturama:

otpornost na oksidaciju je još uvijek vrlo dobra kada je temperatura visoka do 1600 C.

2. Visoka čistoća: izrađeno kemijskim taloženjem iz pare pod uvjetima kloriranja na visokoj temperaturi.

3. Otpornost na eroziju: visoka tvrdoća, kompaktna površina, fine čestice.

4. Otpornost na koroziju: kiseline, lužine, soli i organski reagensi.

Glavne specifikacije CVD-SIC premaza: