ડ્રાય ઇચિંગ દરમિયાન સાઇડવૉલ્સ શા માટે વળે છે?

આયન બોમ્બાર્ડમેન્ટની બિન-એકરૂપતા

શુષ્કકોતરણીસામાન્ય રીતે એક પ્રક્રિયા છે જે ભૌતિક અને રાસાયણિક અસરોને જોડે છે, જેમાં આયન બોમ્બાર્ડમેન્ટ એ એક મહત્વપૂર્ણ ભૌતિક કોતરણી પદ્ધતિ છે. દરમિયાનકોતરણી પ્રક્રિયા, ઘટના કોણ અને આયનોનું ઊર્જા વિતરણ અસમાન હોઈ શકે છે.

જો સાઇડવૉલ પર વિવિધ સ્થાનો પર આયન ઘટના કોણ અલગ હોય, તો સાઇડવૉલ પર આયનોની કોતરણીની અસર પણ અલગ હશે. મોટા આયન ઘટના ખૂણાવાળા વિસ્તારોમાં, સાઇડવૉલ પર આયનોની કોતરણીની અસર વધુ મજબૂત હોય છે, જેના કારણે આ વિસ્તારમાં સાઇડવૉલ વધુ કોતરવામાં આવે છે, જેના કારણે સાઇડવૉલ વાંકો બને છે. વધુમાં, આયન ઊર્જાનું અસમાન વિતરણ પણ સમાન અસરો પેદા કરશે. ઉચ્ચ ઉર્જા સાથેના આયનો વધુ અસરકારક રીતે સામગ્રીને દૂર કરી શકે છે, પરિણામે અસંગત બને છેકોતરણીવિવિધ સ્થાનો પર સાઇડવૉલની ડિગ્રી, જે બદલામાં સાઇડવૉલને વળાંકનું કારણ બને છે.

ફોટોરેસિસ્ટનો પ્રભાવ

ફોટોરેસિસ્ટ ડ્રાય ઈચિંગમાં માસ્કની ભૂમિકા ભજવે છે, એવા વિસ્તારોને સુરક્ષિત કરે છે કે જેને ખોતરવાની જરૂર નથી. જો કે, ફોટોરેસિસ્ટ પ્લાઝ્મા બોમ્બાર્ડમેન્ટ અને એચિંગ પ્રક્રિયા દરમિયાન રાસાયણિક પ્રતિક્રિયાઓ દ્વારા પણ પ્રભાવિત થાય છે, અને તેની કામગીરી બદલાઈ શકે છે.

જો ફોટોરેસિસ્ટની જાડાઈ અસમાન હોય, એચિંગ પ્રક્રિયા દરમિયાન વપરાશ દર અસંગત હોય, અથવા ફોટોરેસિસ્ટ અને સબસ્ટ્રેટ વચ્ચેનું સંલગ્નતા વિવિધ સ્થળોએ અલગ હોય, તો તે એચિંગ પ્રક્રિયા દરમિયાન સાઇડવૉલ્સનું અસમાન રક્ષણ તરફ દોરી શકે છે. ઉદાહરણ તરીકે, પાતળા ફોટોરેસિસ્ટ અથવા નબળા સંલગ્નતાવાળા વિસ્તારો અંતર્ગત સામગ્રીને વધુ સરળતાથી કોતરવામાં આવી શકે છે, જેના કારણે આ સ્થાનો પર સાઇડવૉલ્સ વળે છે.

સબસ્ટ્રેટ સામગ્રીના ગુણધર્મોમાં તફાવત

કોતરણીવાળી સબસ્ટ્રેટ સામગ્રીમાં વિવિધ ગુણધર્મો હોઈ શકે છે, જેમ કે વિવિધ ક્રિસ્ટલ અભિગમ અને વિવિધ પ્રદેશોમાં ડોપિંગ સાંદ્રતા. આ તફાવતો એચીંગ રેટ અને એચીંગ પસંદગીને અસર કરશે.
ઉદાહરણ તરીકે, સ્ફટિકીય સિલિકોનમાં, વિવિધ ક્રિસ્ટલ ઓરિએન્ટેશનમાં સિલિકોન અણુઓની ગોઠવણી અલગ છે, અને તેમની પ્રતિક્રિયાશીલતા અને એચિંગ ગેસ સાથે એચિંગ રેટ પણ અલગ હશે. એચીંગ પ્રક્રિયા દરમિયાન, સામગ્રીના ગુણધર્મમાં તફાવતને કારણે થતા વિવિધ એચીંગના દરો વિવિધ સ્થળોએ સાઇડવૉલની ઊંડાઈને અસંગત બનાવશે, જે આખરે સાઇડવૉલ બેન્ડિંગ તરફ દોરી જશે.

સાધન-સંબંધિત પરિબળો

એચીંગ સાધનોની કામગીરી અને સ્થિતિ પણ એચીંગના પરિણામો પર મહત્વપૂર્ણ અસર કરે છે. ઉદાહરણ તરીકે, પ્રતિક્રિયા ચેમ્બરમાં અસમાન પ્લાઝ્મા વિતરણ અને અસમાન ઇલેક્ટ્રોડ વસ્ત્રો જેવી સમસ્યાઓ એચીંગ દરમિયાન વેફર સપાટી પર આયન ઘનતા અને ઊર્જા જેવા પરિમાણોના અસમાન વિતરણ તરફ દોરી શકે છે.

આ ઉપરાંત, સાધનસામગ્રીનું અસમાન તાપમાન નિયંત્રણ અને ગેસના પ્રવાહમાં સહેજ વધઘટ પણ એચિંગની એકરૂપતાને અસર કરી શકે છે, જે બાજુની દિવાલ તરફ દોરી જાય છે.