Lors du procédé d'épitaxie en phase vapeur (EPV), le rôle du support est de maintenir le substrat et d'assurer un chauffage uniforme pendant la croissance. Différents types de supports sont adaptés à différentes conditions de croissance et à différents matériaux. Voici quelques-uns des types de supports couramment utilisés en épitaxie en phase vapeur.épitaxie:
socle de tonneau
Les supports cylindriques sont couramment utilisés dans les systèmes d'épitaxie en phase vapeur horizontaux ou inclinés. Ils permettent de maintenir le substrat et de laisser circuler le gaz sur celui-ci, favorisant ainsi une croissance épitaxiale uniforme.
Socle en forme de disque (socle vertical)
Les supports en forme de disque conviennent aux systèmes d'épitaxie en phase vapeur verticale, où le substrat est placé verticalement. Cette conception permet de réduire la surface de contact entre le substrat et le suscepteur, limitant ainsi les pertes de chaleur et les risques de contamination.
suscepteur horizontal
Les suscepteurs horizontaux sont moins courants en épitaxie en phase vapeur, mais peuvent être utilisés dans certains systèmes de croissance spécifiques pour permettre une croissance épitaxiale dans une direction horizontale.
Suscepteur de réaction épitaxial monolithique
Le suscepteur de réaction épitaxial monolithique est conçu pour un substrat unique, ce qui permet un contrôle de température plus précis et une meilleure isolation thermique, adapté à la croissance de couches épitaxiales de haute qualité.
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Date de publication : 30 juillet 2024