kemiallinen höyrypinnoitus (CVD) on menetelmä, jossa kiinteän kalvon muodostaminen piikiekon pinnalle kaasuseoksen kemiallisen kemiallisen reaktion kautta. Tämä menettely voidaan jakaa valikoituihin laitemalleihin, jotka perustuvat erilaisiin kemiallisiin reaktio-olosuhteisiin, kuten paine ja esiaste.
Mihin toimenpiteisiin näitä kahta laitetta käytetään?PECVD (Plasma Enhanced) -laitteita käytetään laajasti sovelluksissa, kuten OX, nitridi, metallielementtiportti ja amorfinen hiili. Toisaalta LPCVD:tä (Low Power) käytetään tyypillisesti nitridille, polylle ja TEOS:lle.
Mikä on periaate?PECVD-teknologia yhdistää plasmaenergian ja CVD:n hyödyntämällä matalan lämpötilan plasmaa tuoreen purkauksen aikaansaamiseksi toimenpidekammion katodissa. Tämä mahdollistaa kontrollikemiallisen ja plasmakemiallisen reaktion muodostaa kiinteän kalvon näytteen pinnalle. Vastaavasti LPCVD:n on tarkoitus toimia alentamalla kemiallisen reaktiokaasun painetta reaktorissa.
humanisoi tekoäly: Humanize AI:n käyttö CVD-tekniikan alalla voi parantaa huomattavasti elokuvan talletusmenettelyn tehokkuutta ja tarkkuutta. Vipuvaikutteisen AI-algoritmin avulla parametrien, kuten ioniparametrin, kaasun virtausnopeuden, lämpötilan ja elokuvan paksuuden valvontaa ja säätöä voidaan optimoida parempien tulosten saavuttamiseksi.
Postitusaika: 24.10.2024