رسوب شیمیایی بخار (CVD) روشی است که شامل قرار دادن یک فیلم جامد بر روی سطح ویفر سیلیکونی از طریق واکنش شیمیایی شیمیایی مخلوط گاز است. این روش را می توان به مدل تجهیزات مختلف تقسیم کرد که در شرایط مختلف واکنش شیمیایی مانند فشار و پیش ساز ایجاد می شود.
این دو دستگاه برای چه رویه ای استفاده می شوند؟تجهیزات PECVD (پلاسما تقویت شده) به طور گسترده در کاربردهایی مانند OX، نیترید، دروازه عنصر فلزی و کربن آمورف استفاده می شود. از سوی دیگر، LPCVD (کم توان) معمولاً برای نیترید، پلی و TEOS استفاده می شود.
اصل چیست؟فناوری PECVD انرژی پلاسما و CVD را با بهره‌برداری از پلاسمای دمای پایین ترکیب می‌کند تا تخلیه تازه‌ای را در کاتد محفظه رویه ایجاد کند. این اجازه می دهد تا واکنش شیمیایی و پلاسما کنترل شود تا یک فیلم جامد روی سطح نمونه تشکیل شود. به طور مشابه، LPCVD قصد دارد در کاهش فشار گاز واکنش شیمیایی در راکتور عمل کند.
هوش مصنوعی را انسانی کنید: استفاده از Humanize AI در زمینه فناوری CVD می تواند کارایی و دقت فرآیند رسوب فیلم را تا حد زیادی افزایش دهد. با استفاده از الگوریتم هوش مصنوعی، نظارت و تنظیم پارامترهایی مانند پارامتر یون، سرعت جریان گاز، دما و ضخامت فیلم را می توان برای نتایج بهتر بهینه کرد.
زمان ارسال: اکتبر-24-2024