tubo de carburo de tantalio

Breve descripción:

El recubrimiento de carburo de tantalio es una tecnología de recubrimiento de superficies de alto rendimiento que proporciona una mejora superior del rendimiento al formar una capa protectora dura, resistente al desgaste y a la corrosión en la superficie del material. El recubrimiento tiene una dureza excelente, resistencia a altas temperaturas y resistencia química para proteger eficazmente las superficies metálicas contra el desgaste, la corrosión y la oxidación.

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El recubrimiento TaC es un tipo de recubrimiento de carburo de tantalio (TaC) preparado mediante tecnología de deposición física de vapor y tiene las siguientes características:

1. Alta dureza: La dureza del recubrimiento TaC es alta, generalmente puede alcanzar 2500-3000HV, es un recubrimiento duro excelente.

2. Resistencia al desgaste: el recubrimiento TaC es muy resistente al desgaste, lo que puede reducir eficazmente el desgaste y el daño de las piezas mecánicas durante el uso.

3. Buena resistencia a altas temperaturas: el recubrimiento TaC también puede mantener su excelente rendimiento en ambientes de alta temperatura.

4. Buena estabilidad química: el recubrimiento de TaC tiene buena estabilidad química y puede resistir muchas reacciones químicas, como ácidos y bases.

碳化钽涂层物理特性物理特性 Propiedades físicas de TaC revestimiento
密度/ Densidad	14,3 (g/cm³)
比辐射率 / Emisividad específica	0.3
热膨胀系数 / Coeficiente de expansión térmica	6.3 10^-6/K
努氏硬度/ Dureza (HK)	2000 Hong Kong
电阻 / Resistencia	1×10^-5 Ohmios*cm
热稳定性 / Estabilidad térmica	<2500℃
石墨尺寸变化 / Cambios de tamaño de grafito	-10~-20um
涂层厚度 / Espesor del revestimiento	Valor típico ≥20um (35um±10um)

Ningbo VET Energy Technology Co., Ltd es una empresa de alta tecnología que se centra en la producción y venta de materiales avanzados de alta gama, materiales y tecnología que cubren grafito, carburo de silicio, cerámica, tratamiento de superficies, etc. Los productos son ampliamente utilizados en fotovoltaica, semiconductores, nuevas energías, metalurgia, etc.

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