Las obleas de silicio de 8 pulgadas de VET Energy se utilizan ampliamente en electrónica de potencia, sensores, circuitos integrados y otros campos. Como líder en la industria de semiconductores, estamos comprometidos a proporcionar productos Si Wafer de alta calidad para satisfacer las crecientes necesidades de nuestros clientes.
Además de Si Wafer, VET Energy también ofrece una amplia gama de materiales de sustrato semiconductor, incluidos sustrato de SiC, oblea SOI, sustrato de SiN, oblea Epi, etc. Nuestra línea de productos también cubre nuevos materiales semiconductores de banda ancha como óxido de galio Ga2O3 y AlN. Wafer, que brinda un fuerte apoyo al desarrollo de dispositivos electrónicos de potencia de próxima generación.
VET Energy cuenta con equipos de producción avanzados y un completo sistema de gestión de calidad para garantizar que cada oblea cumpla con estrictos estándares de la industria. Nuestros productos no solo tienen excelentes propiedades eléctricas, sino que también tienen buena resistencia mecánica y estabilidad térmica.
VET Energy ofrece a sus clientes soluciones de obleas personalizadas, incluidas obleas de diferentes tamaños, tipos y concentraciones de dopaje. Además, también brindamos soporte técnico profesional y servicio posventa para ayudar a los clientes a resolver diversos problemas encontrados durante el proceso de producción.
ESPECIFICACIONES DE OBLEAS
*n-Pm=tipo n Grado Pm,n-Ps=tipo n Grado Ps,Sl=Semiaislante
Artículo | 8 pulgadas | 6 pulgadas | 4 pulgadas | ||
notario público | n-Pm | n-Ps | SI | SI | |
TTV (GBIR) | ≤6um | ≤6um | |||
Arco(GF3YFCD)-Valor absoluto | ≤15 μm | ≤15 μm | ≤25 μm | ≤15 μm | |
Deformación (GF3YFER) | ≤25 μm | ≤25 μm | ≤40 μm | ≤25 μm | |
LTV(SBIR)-10mmx10mm | <2μm | ||||
Borde de oblea | biselado |
ACABADO SUPERFICIAL
*n-Pm=tipo n Grado Pm,n-Ps=tipo n Grado Ps,Sl=Semiaislante
Artículo | 8 pulgadas | 6 pulgadas | 4 pulgadas | ||
notario público | n-Pm | n-Ps | SI | SI | |
Acabado superficial | Pulido óptico de doble cara, Si-Face CMP | ||||
Rugosidad de la superficie | (10um x 10um) Si-FaceRa≤0.2nm | (5umx5um) Cara de Si Ra≤0.2nm | |||
Astillas de borde | Ninguno permitido (largo y ancho ≥0,5 mm) | ||||
Sangrías | Ninguno permitido | ||||
Arañazos (Si-Cara) | Cant. ≤ 5, acumulativo | Cant. ≤ 5, acumulativo | Cant. ≤ 5, acumulativo | ||
Grietas | Ninguno permitido | ||||
Exclusión de borde | 3mm |