Was ist der Planarisierungsmechanismus von CMP?

Dual-Damascene ist eine Prozesstechnologie zur Herstellung von Metallverbindungen in integrierten Schaltungen. Sie stellt eine Weiterentwicklung des Damaskus-Verfahrens dar. Durch die gleichzeitige Herstellung von Durchgangslöchern und Nuten in einem einzigen Prozessschritt und deren anschließende Metallisierung wird die integrierte Fertigung von Metallverbindungen realisiert.

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Warum heißt es Damaskus?


Damaskus ist die Hauptstadt Syriens, und Damaskus-Schwerter sind berühmt für ihre Schärfe und exquisite Verarbeitung. Für die Herstellung ist ein spezielles Einlegeverfahren erforderlich: Zunächst wird das gewünschte Muster in die Oberfläche des Damaskusstahls eingraviert, anschließend werden die vorbereiteten Materialien passgenau in die gravierten Rillen eingelegt. Nach dem Einlegen kann die Oberfläche leicht uneben sein. Der Handwerker poliert sie sorgfältig, um eine gleichmäßige Glätte zu gewährleisten. Dieses Verfahren ist die Grundlage für das zweistufige Damaskus-Verfahren. Dabei werden zunächst Rillen oder Löcher in die dielektrische Schicht eingraviert und anschließend mit Metall gefüllt. Nach dem Füllen wird das überschüssige Metall durch eine Poliermaschine entfernt.

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Die wichtigsten Schritte des dualen Damaszenerprozesses umfassen:

 

▪ Abscheidung der dielektrischen Schicht:


Eine Schicht aus dielektrischem Material, wie beispielsweise Siliziumdioxid (SiO2), wird auf den Halbleiter aufgebracht.Waffel.

 

▪ Fotolithografie zur Definition des Musters:


Die Anordnung der Durchkontaktierungen und Gräben auf der dielektrischen Schicht wird mittels Fotolithografie definiert.

 

Radierung:


Übertragen Sie das Muster aus Durchkontaktierungen und Gräben mittels eines Trocken- oder Nassätzverfahrens auf die dielektrische Schicht.

 

▪ Metallabscheidung:


Metalle wie Kupfer (Cu) oder Aluminium (Al) werden in Durchkontaktierungen und Gräben aufgebracht, um metallische Verbindungen herzustellen.

 

▪ Chemisch-mechanisches Polieren:


Chemisch-mechanisches Polieren der Metalloberfläche, um überschüssiges Metall zu entfernen und die Oberfläche zu ebnen.

 

 

Im Vergleich zum herkömmlichen Herstellungsverfahren für Metallverbindungen bietet das Dual-Damascene-Verfahren folgende Vorteile:

▪Vereinfachte Prozessschritte:Durch die gleichzeitige Herstellung von Durchkontaktierungen und Gräben im selben Prozessschritt werden die Prozessschritte und die Fertigungszeit reduziert.

▪Verbesserte Fertigungseffizienz:Durch die Reduzierung der Prozessschritte kann das Dual-Damascene-Verfahren die Fertigungseffizienz steigern und die Produktionskosten senken.

▪Verbesserung der Leistungsfähigkeit von Metallverbindungen:Durch das Dual-Damascene-Verfahren lassen sich schmalere Metallverbindungen realisieren, wodurch die Integration und die Leistungsfähigkeit von Schaltungen verbessert werden.

▪Reduzierung der parasitären Kapazität und des Widerstands:Durch die Verwendung von dielektrischen Materialien mit niedriger Dielektrizitätskonstante und die Optimierung der Struktur der Metallverbindungen können parasitäre Kapazitäten und Widerstände reduziert und somit die Geschwindigkeit und der Stromverbrauch der Schaltungen verbessert werden.


Veröffentlichungsdatum: 25. November 2024
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