Cwch graffit a ddefnyddir yn PECVD o linell gynhyrchu celloedd solar
Mae cynhyrchu celloedd solar yn gofyn am chwe phrif broses: gweadu, tryledu, ysgythru, cotio, argraffu sgrin a sintro.Wrth weithgynhyrchu celloedd solar, mae proses cotio tiwb PECVD yn defnyddio cwch graffit fel y corff gweithio.Mae'r broses gorchuddio yn defnyddio dyddodiad anwedd cemegol plasma wedi'i wella i adneuo ffilm nitrid silicon ar flaen y wafer silicon i leihau adlewyrchiad golau'r haul ac arwyneb y wafer silicon.
Nodweddion ein cwch graffit PECVD:
1).Wedi'i fabwysiadu i ddileu'r dechnoleg "lensys lliw", i wneud yn siŵr heb "lensys coloe" yn ystod y broses hirdymor.
2).Wedi'i wneud o'r deunydd graffit wedi'i fewnforio gyda phurdeb uchel, cynnwys amhuredd isel a chryfder uchel.
3).Defnyddio'r seramig 99.9% ar gyfer y cynulliad ceramig gyda pherfformiad gwrthsefyll cyrydiad cryf a phrawf brwsh.
4).Defnyddio'r offer prosesu manwl i sicrhau cywirdeb pob rhan.
Manyleb
| Eitem | Math | Cludwr afrlladen rhif |
| Cwch graffit PEVCD --- Y gyfres 156 | 156-13 cwch graffit | 144 |
| 156-19 cwch graffit | 216 | |
| 156-21 cwch graffit | 240 | |
| 156-23 cwch graffit | 308 | |
| Cwch graffit PEVCD --- Y gyfres 125 | 125-15 cwch graffit | 196 |
| 125-19 cwch graffit | 252 | |
| 125-21 cwch graffit | 280 |
Mae Ningbo VET Energy Technology Co, Ltd yn fenter uwch-dechnoleg sy'n canolbwyntio ar gynhyrchu a gwerthu deunyddiau uwch pen uchel, y deunyddiau a'r dechnoleg gan gynnwys graffit, carbid silicon, cerameg, triniaeth arwyneb fel cotio SiC, cotio TaC, carbon gwydrog cotio, cotio carbon pyrolytig, ac ati, defnyddir y cynhyrchion hyn yn eang mewn ffotofoltäig, lled-ddargludyddion, ynni newydd, meteleg, ac ati.
Mae ein tîm technegol yn dod o sefydliadau ymchwil domestig gorau, ac wedi datblygu technolegau patent lluosog i sicrhau perfformiad cynnyrch ac ansawdd, gall hefyd ddarparu cwsmeriaid ag atebion deunydd proffesiynol.
