Cwch graffit C/C Cludwr Ar gyfer Wafer Silicon PECVD

Cwch graffit a ddefnyddir yn PECVD o linell gynhyrchu celloedd solar

Mae cynhyrchu celloedd solar yn gofyn am chwe phrif broses: gweadu, tryledu, ysgythru, cotio, argraffu sgrin a sintro. Wrth weithgynhyrchu celloedd solar, mae proses cotio tiwb PECVD yn defnyddio cwch graffit fel y corff gweithio. Mae'r broses gorchuddio yn defnyddio dyddodiad anwedd cemegol plasma wedi'i wella i adneuo ffilm nitrid silicon ar flaen y wafer silicon i leihau adlewyrchiad golau'r haul ac arwyneb y wafer silicon.

Nodweddion ein cwch graffit PECVD:
1). Wedi'i fabwysiadu i ddileu'r dechnoleg "lensys lliw", i wneud yn siŵr heb "lensys coloe" yn ystod y broses hirdymor.
2). Wedi'i wneud o'r deunydd graffit wedi'i fewnforio gyda phurdeb uchel, cynnwys amhuredd isel a chryfder uchel.
3). Defnyddio'r seramig 99.9% ar gyfer y cynulliad ceramig gyda pherfformiad gwrthsefyll cyrydiad cryf a phrawf brwsh.
4). Defnyddio'r offer prosesu manwl i sicrhau cywirdeb pob rhan.

Manyleb

Mae Ningbo VET Energy Technology Co, Ltd yn fenter uwch-dechnoleg sy'n canolbwyntio ar gynhyrchu a gwerthu deunyddiau uwch pen uchel, y deunyddiau a'r dechnoleg gan gynnwys graffit, carbid silicon, cerameg, triniaeth arwyneb fel cotio SiC, cotio TaC, carbon gwydrog cotio, cotio carbon pyrolytig, ac ati, defnyddir y cynhyrchion hyn yn eang mewn ffotofoltäig, lled-ddargludyddion, ynni newydd, meteleg, ac ati.

Mae ein tîm technegol yn dod o sefydliadau ymchwil domestig gorau, ac wedi datblygu technolegau patent lluosog i sicrhau perfformiad cynnyrch ac ansawdd, gall hefyd ddarparu cwsmeriaid ag atebion deunydd proffesiynol.