Držák grafitového substrátu pro PECVD

Krátký popis:

Držák grafitového substrátu VET Energy je navržen tak, aby udržoval vyrovnání a stabilitu plátků během procesu PECVD, zabraňoval kontaminaci a minimalizoval riziko poškození. Držák grafitových destiček poskytuje bezpečnou, rovnoměrnou platformu, která zajišťuje, že destičky jsou rovnoměrně vystaveny plazmě pro konzistentní a vysoce kvalitní nanášení. Díky své vysoké tepelné vodivosti a výjimečné pevnosti tento držák pomáhá zlepšit celkovou efektivitu procesu a výkonnost produktu.

Pošlete nám e-mail Stáhnout jako PDF

Detail produktu

Štítky produktu

VET Energy Graphite Substrate Wafer Holder je přesný nosič navržený pro proces PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). Tento vysoce kvalitní držák grafitového substrátu je vyroben z vysoce čistého grafitového materiálu s vysokou hustotou, s vynikající odolností vůči vysokým teplotám, odolností proti korozi, rozměrovou stálostí a dalšími vlastnostmi. Může poskytnout stabilní podpůrnou platformu pro proces PECVD a zajistit rovnoměrnost a rovinnost nanášení filmu.

VET Energy PECVD procesní tabulka podpory grafitových plátků má následující vlastnosti:

▪Vysoká čistota:extrémně nízký obsah nečistot, zabraňte kontaminaci filmu, zajistěte kvalitu filmu.

▪Vysoká hustota:vysoká hustota, vysoká mechanická pevnost, vydrží vysoké teploty a vysoký tlak prostředí PECVD.

▪Dobrá rozměrová stabilita:malá rozměrová změna při vysoké teplotě zajišťující stabilitu procesu.

▪Vynikající tepelná vodivost:účinně přenáší teplo, aby se zabránilo přehřátí plátku.

▪Silná odolnost proti korozi:může odolat erozi různými korozivními plyny a plazmou.

▪Přizpůsobená služba:grafitové podpěrné stoly různých velikostí a tvarů lze upravit podle potřeb zákazníka.

Výhody produktu

▪Zlepšení kvality filmu:Zajistěte jednotné nanášení filmu a zlepšujte kvalitu filmu.

▪Prodlužte životnost zařízení:Vynikající odolnost proti korozi, prodloužení životnosti zařízení PECVD.

▪Snížit výrobní náklady:Vysoce kvalitní grafitové podnosy mohou snížit zmetkovitost a snížit výrobní náklady.

Grafitový materiál od SGL:

Typický parametr: R6510
Index	Testovací standard	Hodnota	Jednotka
Průměrná velikost zrna	ISO 13320	10	μm
Objemová hmotnost	DIN IEC 60413/204	1,83	g/cm³
Otevřená pórovitost	DIN66133	10	%
Střední velikost pórů	DIN66133	1.8	μm
Propustnost	DIN 51935	0,06	cm²/s
Tvrdost podle Rockwella HR5/100	DIN IEC60413/303	90	HR
Specifický elektrický odpor	DIN IEC 60413/402	13	μΩm
Pevnost v ohybu	DIN IEC 60413/501	60	MPa
Pevnost v tlaku	DIN 51910	130	MPa
Youngův modul	DIN 51915	11,5×10³	MPa
Tepelná roztažnost (20-200 ℃)	DIN 51909	4,2X10^-6	K^-1
Tepelná vodivost (20℃)	DIN 51908	105	Wm^-1K^-1

Je speciálně navržen pro vysoce účinnou výrobu solárních článků a podporuje zpracování velkých plátků G12. Optimalizovaná konstrukce nosiče výrazně zvyšuje propustnost, umožňuje vyšší výnosy a nižší výrobní náklady.

Položka	Typ	Číslo nosiče destiček
PEVCD Grephite člun - Řada 156	156-13 grephite člun	144
	156-19 grephite člun	216
	156-21 grefitový člun	240
	156-23 grafitový člun	308
PEVCD Grephite člun – řada 125	125-15 grephite člun	196
	125-19 grephite člun	252
	125-21 grphite člun	280