L'AvanzatuSiC Cantilever Paddleper Wafer Processing creatu da vet-china furnisce una soluzione eccellente per a fabricazione di semiconduttori. Questa paleta cantilever hè fatta di materiale SiC (carburu di siliciu), è a so alta durezza è resistenza à u calore li permettenu di mantene un rendimentu eccellente in ambienti alta temperatura è corrosivi. U disignu di u Cantilever Paddle permette à l'ostia per esse supportata in modu affidabile durante a trasfurmazioni, riducendu u risicu di frammentazione è danni.
SiC Cantilever Paddlehè un cumpunente specializatu utilizatu in l'equipaggiu di fabricazione di semiconductor cum'è u furnace d'ossidazione, u furnace di diffusione è u furnace di annealing, l'usu principale hè di carica è scaricamentu di wafer, supporta è trasporta wafers durante i prucessi à alta temperatura.
Strutture cumunidiSiCcantileverpaddu: una struttura in cantilever, fissata à una estremità è libera à l'altru, tipicamente hà un disignu pianu è paddle-like.
VET Energy usa materiali di carburu di siliciu recristallizatu di alta purezza per guarantisci a qualità.
| Proprietà fisiche di Carburo di Siliciu Recristallizatu | |
| Pruprietà | Valore tipicu |
| Température de travail (°C) | 1600 ° C (cù l'ossigenu), 1700 ° C (ambienti riduzzione) |
| cuntenutu SiC | > 99,96% |
| Cuntinutu Si gratuitu | < 0,1% |
| Densità di massa | 2,60-2,70 g/cm3 |
| Porosità apparente | < 16% |
| Forza di cumpressione | > 600MPa |
| Forza di curvatura à freddo | 80-90 MPa (20°C) |
| Forza di curvatura calda | 90-100 MPa (1400 ° C) |
| Dilatazione termica @ 1500 ° C | 4,70 10-6/°C |
| Conduttività termica @ 1200 ° C | 23W/m•K |
| Modulu elasticu | 240 GPa |
| Resistenza di scossa termale | Moltu bè |
I vantaghji di l'Advanced SiC Cantilever Paddle di VET Energy per l'elaborazione di wafer sò:
-Stabilità à alta temperatura: utilizzabile in ambienti sopra 1600 ° C;
-Bassu coefficiente di espansione termica: mantene a stabilità dimensionale, riducendu u risicu di warpage di wafer;
-Alta purezza: risicu più bassu di contaminazione di metalli;
-Inerzia chimica: resistente à a corrosione, adattatu per diversi ambienti di gas;
-Alta forza è durezza: resistenza à l'usura, longa vita di serviziu;
-Bona conduttività termica: aiuta à riscaldamentu uniforme di wafer.
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