Susceptor MOCVD di alta qualità 2022 Cumprate in linea in Cina, suscettori di epitassi di Sic Graphite,
Sustrati di supportu di grafite, Susceptori di grafite, Suscettori di grafite per l'epitassia SiC, Suscettori di grafite per u siliciu, Suscettori di grafite cù rivestimentu di carburu di siliciu, STRUMENTI DI GRAFITE IN SEMICONDUTTORE Vassoi di grafite Suscettori di wafer di grafite STRUMENTI DI GRAFITE DI ALTA PUREZZA Optoelettronica, piattaforme satellitari per u MOCVD, Piattaforme satellitari di grafite rivestite di SiC per MOCVD,
Vantaggi speciali di i nostri suscettori di grafite rivestiti di SiC includenu una purezza estremamente alta, un revestimentu omogeneu è una vita utile eccellente. Hanu ancu una alta resistenza chimica è proprietà di stabilità termale.
U revestimentu SiC di sustrato di Grafite per l'applicazioni di Semiconductor produce una parte cun purezza superiore è resistenza à l'atmosfera ossidante.
CVD SiC o CVI SiC hè appiicatu à Grafite di parti di design simplici o cumplessi. U rivestimentu pò esse applicatu in varii grossi è à parti assai grandi.
Features:
· Eccellente Resistenza à u Shock Thermal
· Eccellente resistenza fisica à u scossa
· Eccellente resistenza chimica
· Super High Purity
· Disponibilità in forma cumplessa
· Usable sottu à l'atmosfera ossidante
Proprietà tipiche di u materiale di grafite di basa:
Densità apparente: | 1,85 g/cm3 |
Resistività elettrica: | 11 μΩm |
Forza a flessione: | 49 MPa (500 kgf/cm2) |
Durezza Shore: | 58 |
Ash: | < 5 ppm |
Conduttività termica: | 116 W/mK (100 kcal/mhr-℃) |
Carbon furnisce suscettori è cumpunenti di grafite per tutti i reattori epitassi attuali. A nostra cartera include suscettori di barile per unità applicate è LPE, suscettori pancake per unità LPE, CSD è Gemini, è suscettori unicu wafer per unità applicate è ASM. Cumminendu partenariati forti cù i principali OEM, sapè fà di materiali è sapè fà, SGL. offre u disignu ottimali per a vostra applicazione.
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