Riscaldatore di Grafite Personalizatu per Wafer di Siliciu Semiconductor, Revestimentu SiC

Breve descrizzione:

Specificazione tecnica

VET-M3

Densità apparente (g/cm3)

≥ 1,85

Contenutu di Ash (PPM)

≤500

Durezza Shore

≥45

Résistance spécifique (μ.Ω.m)

≤12

Forza à a flessione (Mpa)

≥40

Forza di compressione (Mpa)

≥70

Max. Taille de grain (μm)

≤43

Coefficient of Thermal Expansion Mm/°C

≤4,4 * 10-6


Detail di u produttu

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Specificazione tecnica

VET-M3

Densità apparente (g/cm3)

≥ 1,85

Contenutu di Ash (PPM)

≤500

Durezza Shore

≥45

Résistance spécifique (μ.Ω.m)

≤12

Forza à a flessione (Mpa)

≥40

Forza di compressione (Mpa)

≥70

Max. Taille de grain (μm)

≤43

Coefficient of Thermal Expansion Mm/°C

≤4,4 * 10-6

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Riscaldatore di Grafite Personalizatu per Wafer di Siliciu Semiconductor

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