VET Energy GaN on Silicon Wafer és una solució de semiconductors d'avantguarda dissenyada específicament per a aplicacions de radiofreqüència (RF). Mitjançant el creixement epitaxial de nitrur de gal·li (GaN) d'alta qualitat sobre un substrat de silici, VET Energy ofereix una plataforma rendible i d'alt rendiment per a una àmplia gamma de dispositius de RF.
Aquesta hòstia GaN sobre silici és compatible amb altres materials com l'hòstia Si, el substrat SiC, l'hòstia SOI i el substrat SiN, ampliant la seva versatilitat per a diversos processos de fabricació. A més, està optimitzat per al seu ús amb Epi Wafer i materials avançats com l'òxid de gal·li Ga2O3 i AlN Wafer, que milloren encara més les seves aplicacions en electrònica d'alta potència. Les hòsties estan dissenyades per a una integració perfecta als sistemes de fabricació mitjançant la manipulació estàndard de cassets per facilitar-ne l'ús i augmentar l'eficiència de producció.
VET Energy ofereix una cartera completa de substrats semiconductors, que inclou Si Wafer, SiC Substrate, SOI Wafer, SiN Substrate, Epi Wafer, Òxid de Galli Ga2O3 i AlN Wafer. La nostra diversa línia de productes respon a les necessitats de diverses aplicacions electròniques, des de l'electrònica de potència fins a RF i optoelectrònica.
GaN on Silicon Wafer ofereix diversos avantatges per a aplicacions de RF:
• Rendiment d'alta freqüència:L'ampli interval de banda i l'alta mobilitat d'electrons de GaN permeten un funcionament d'alta freqüència, el que el fa ideal per a 5G i altres sistemes de comunicació d'alta velocitat.
• Alta densitat de potència:Els dispositius GaN poden gestionar densitats de potència més altes en comparació amb els dispositius tradicionals basats en silici, donant lloc a sistemes de RF més compactes i eficients.
• Baix consum d'energia:Els dispositius GaN presenten un menor consum d'energia, el que resulta en una millora de l'eficiència energètica i una reducció de la dissipació de calor.
Aplicacions:
• Comunicació sense fil 5G:Les hòsties GaN on Silicon són essencials per construir estacions base i dispositius mòbils 5G d'alt rendiment.
• Sistemes de radar:Els amplificadors de RF basats en GaN s'utilitzen en sistemes de radar per la seva alta eficiència i ample de banda.
• Comunicació per satèl·lit:Els dispositius GaN permeten sistemes de comunicació per satèl·lit d'alta potència i alta freqüència.
• Electrònica militar:Els components de RF basats en GaN s'utilitzen en aplicacions militars com ara la guerra electrònica i els sistemes de radar.
VET Energy ofereix GaN personalitzable en hòsties de silici per satisfer els vostres requisits específics, inclosos diferents nivells de dopatge, gruixos i mides d'hòsties. El nostre equip d'experts ofereix suport tècnic i servei postvenda per garantir el vostre èxit.
ESPECIFICACIONS DE LA HÒBLEA
*n-Pm=n-tipus Pm-Grau, n-Ps=n-tipus Ps-Grau, Sl=Semi-aïllant
Item | 8 polzades | 6 polzades | 4 polzades | ||
nP | n-p.m | n-Ps | SI | SI | |
TTV (GBIR) | ≤6um | ≤6um | |||
Arc (GF3YFCD)-Valor absolut | ≤15μm | ≤15μm | ≤25μm | ≤15μm | |
Deformació (GF3YFER) | ≤25μm | ≤25μm | ≤40μm | ≤25μm | |
LTV (SBIR) - 10 mm x 10 mm | <2 μm | ||||
Vora de l'hòstia | Bisellat |
ACABAT SUPERFICIAL
*n-Pm=n-tipus Pm-Grau, n-Ps=n-tipus Ps-Grau, Sl=Semi-aïllant
Item | 8 polzades | 6 polzades | 4 polzades | ||
nP | n-p.m | n-Ps | SI | SI | |
Acabat superficial | Poliment òptic de doble cara, CMP Si-face | ||||
Rugositat superficial | (10um x 10um) Si-FaceRa≤0,2 nm | (5umx5um) Si-Face Ra≤0.2nm | |||
Xips de vora | Cap permès (longitud i amplada ≥0,5 mm) | ||||
Sagnats | Cap permès | ||||
Esgarrapades (Si-Face) | Quantitat ≤5, acumulat | Quantitat ≤5, acumulat | Quantitat ≤5, acumulat | ||
Esquerdes | Cap permès | ||||
Exclusió de vora | 3 mm |