ترسيب البخار الكيميائي (CVD) هو إجراء يتضمن وضع فيلم صلب على سطح رقاقة السيليكون من خلال تفاعل كيميائي كيميائي لخليط غاز. يمكن تقسيم هذا الإجراء إلى نموذج معدات متنوعة يتم إنشاؤه وفقًا لظروف التفاعل الكيميائي المختلفة مثل الضغط والسلائف.
ما الإجراء الذي يتم استخدام هذين الجهازين فيه؟تستخدم معدات PECVD (البلازما المحسنة) على نطاق واسع في التطبيقات مثل OX، Nitride، بوابة العنصر المعدني، والكربون غير المتبلور. من ناحية أخرى، يتم استخدام LPCVD (طاقة منخفضة) عادةً في Nitride وpoly وTEOS.
ما هو المبدأ؟تجمع تقنية PECVD بين طاقة البلازما والأمراض القلبية الوعائية عن طريق استغلال البلازما ذات درجة الحرارة المنخفضة للحث على تفريغ النضارة عند كاثود غرفة الإجراء. يتيح ذلك التحكم في التفاعل الكيميائي والبلازما الكيميائي لتكوين طبقة صلبة على سطح العينة. وبالمثل، يخطط LPCVD للعمل على تقليل ضغط غاز التفاعل الكيميائي في المفاعل.
إضفاء الطابع الإنساني على منظمة العفو الدولية: يمكن أن يؤدي استخدام Humanize AI في مجال تكنولوجيا الأمراض القلبية الوعائية إلى تعزيز كفاءة ودقة إجراء ترسيب الفيلم بشكل كبير. ومن خلال الاستفادة من خوارزمية الذكاء الاصطناعي، يمكن تحسين مراقبة المعلمات وتعديلها مثل معلمة الأيونات ومعدل تدفق الغاز ودرجة الحرارة وسمك الفيلم للحصول على نتائج أفضل.
وقت النشر: 24 أكتوبر 2024