כעמישער פארע דעפאזיציע (CVD) איז א פראצעדור וואס נעמט אריין א האַרט פילם אויף א סיליציום ווייפער'ס ייבערפלאַך דורך א כעמישע כעמישער רעאקציע פון א גאז געמיש. דעם פּראָצעדור קענען זיין צעטיילט אין אַ פאַרשיידנקייַט פון ויסריכט מאָדעלס באזירט אויף פאַרשידענע כעמיש אָפּרוף טנאָים אַזאַ ווי דרוק און פּריקערסער.
וואָס פּראָצעדור זענען די צוויי דעוויסעס געניצט פֿאַר?PECVD (Plasma Enhanced) ויסריכט איז וויידלי געניצט אין אַפּלאַקיישאַן אַזאַ ווי אָקס, ניטרידע, מעטאַל עלעמענט טויער און אַמאָרפאַס טשאַד. אויף די אנדערע האַנט, LPCVD (לאָו פּאָווער) איז טיפּיקלי געניצט פֿאַר ניטרידע, פּאָלי און טעאָס.
וואָס איז דער פּרינציפּ?PECVD טעכנאָלאָגיע קאַמביינז פּלאַזמע ענערגיע און CVD דורך עקספּלויטיישאַן פון נידעריק-טעמפּעראַטור פּלאַזמע צו ינדוסירן פרעשנאַס אָפּזאָגן אין די קאַטאָוד פון די פּראָצעדור קאַמער. דעם לאָזן פֿאַר קאָנטראָל כעמישער און פּלאַזמע כעמישער רעאַקציע צו פאָרעם אַ האַרט פֿילם אויף די מוסטער ייבערפלאַך. סימילאַרלי, LPCVD איז פּלאַננעד צו אַרבעטן ביי רעדוצירן כעמיש רעאַקציע גאַז דרוק אין די רעאַקטאָר.
כיומאַנייז אַי: די נוצן פון Humanize AI אין די פעלד פון CVD טעכנאָלאָגיע קענען שטארק פֿאַרבעסערן די עפעקטיווקייַט און אַקיעראַסי פון פֿילם דעפּאַזישאַן פּראָצעדור. דורך לעווערידזש אַי אַלגערידאַם, די מאָניטאָרינג און אַדזשאַסטמאַנט פון פּאַראַמעטער אַזאַ ווי יאָן פּאַראַמעטער, גאַז לויפן קורס, טעמפּעראַטור און פֿילם גרעב קענען זיין אַפּטאַמייז פֿאַר בעסער רעזולטאַטן.
פּאָסטן צייט: 24 אקטאבער 2024