химик пар парламенты (CVD) - газ катнашмасының химик химик реакциясе аша кремний вафин өслегендә каты кино урнаштыру процедурасы. Бу процедураны басым һәм прекурсор кебек төрле химик реакция шартларында урнаштырылган җиһаз моделенә бүлеп була.
Бу ике җайланма нинди процедура өчен кулланыла?PECVD (Плазма көчәйтелгән) җиһазлары OX, Nitride, металл элемент капкасы, аморф углерод кебек куллануда киң кулланыла. Икенче яктан, LPCVD (Түбән Көч) гадәттә Нитрид, поли һәм TEOS өчен кулланыла.
Нинди принцип?PECVD технологиясе плазма энергиясен һәм CVDны түбән температуралы плазманы кулланып берләштерә, процедура палатасы катодында яңалык чыгаруны башлый. Бу химик һәм плазмалы химик реакцияне контрольдә тотарга мөмкинлек бирә, үрнәк өслегендә каты кино. Шулай ук, LPCVD реактордагы химик реакция газ басымын киметүдә эшләргә ниятли.
ЯИны гуманизацияләү: CVD технологиясе өлкәсендә Humanize AI куллану кино урнаштыру процедурасының эффективлыгын һәм төгәллеген арттырырга мөмкин. ЯИ алгоритмы ярдәмендә ион параметры, газ агымы тизлеге, температура, кино калынлыгы кебек параметрларны мониторинглау һәм көйләү яхшырак нәтиҗәләргә оптимальләштерелергә мөмкин.
Пост вакыты: 24-2024 октябрь