Беренчедән, без белергә тиешPECVD(Плазманы көчәйтелгән химик пар парламенты). Плазма - материаль молекулаларның җылылык хәрәкәтенең көчәюе. Алар арасындагы бәрелеш газ молекулаларының ионлашуына китерәчәк, һәм материал иркен хәрәкәт итүче уңай ионнар, электроннар һәм бер-берсе белән бәйләнгән нейтраль кисәкчәләр катнашмасына әйләнәчәк.
Кремний өслегендә яктылыкның чагылыш югалту дәрәҗәсе якынча 35% тәшкил итә. Анти-чагылдыру пленкасы кояш нурының батарея күзәнәген куллану дәрәҗәсен шактый яхшырта ала, бу фотогенерацияләнгән ток тыгызлыгын арттырырга ярдәм итә һәм шулай итеп конверсия эффективлыгын күтәрә. Шул ук вакытта, пленкадагы водород батарея күзәнәгенең пассивлаша, эмитер тоташуының рекомбинация тизлеген киметә, караңгы токны киметә, ачык электр көчәнешен арттыра һәм фотоэлектр конверсия эффективлыгын күтәрә. Яну процессында югары температуралы мизгелдә аннальләштерү кайбер Si-H һәм NH бәйләнешләрен өзә, һәм азат ителгән H батареяның пассивациясен тагын да ныгыта.
Фотовольтаик класслы кремний материаллары котылгысыз рәвештә күп күләмдә пычраклыклар һәм кимчелекләр булганлыктан, азчылык йөртүченең гомере һәм кремнийда диффузия озынлыгы кими, нәтиҗәдә батареяның конверсия эффективлыгы кими. H кремнийдагы җитешсезлекләр яки пычраклыклар белән реакция ясый ала, шуның белән полосадагы энергия полосасын валентлык полосасына яки үткәрү полосасына күчерә ала.
1. PECVD принцибы
PECVD системасы - кулланган генераторлар сериясеPECVD графит көймәсе һәм югары ешлыктагы плазма дулкынландыргычлары. Плазма генераторы түбән басымда һәм күтәрелгән температурада реакция өчен каплау тәлинкәсе уртасына турыдан-туры куелган. Кулланылган актив газлар SiH4 силаны һәм аммиак NH3. Бу газлар кремний вафында сакланган кремний нитридында эшли. Силанның аммиакка мөнәсәбәтен үзгәртеп, төрле реактив күрсәткечләр алырга мөмкин. Чүпләү процессында күп күләмдә водород атомнары һәм водород ионнары барлыкка килә, вафорның водород пассивлашуы бик яхшы. Вакуумда һәм 480 градус җылылык температурасында, SixNy катламы кремний вафаты өслегендә капланган.PECVD графит көймәсе.
3SiH4 + 4NH3 → Si3N4 + 12H2
2. Si3N4
Si3N4 фильмының төсе калынлыгы белән үзгәрә. Гадәттә, идеаль калынлык 75 - 80 нм арасында, ул зәңгәрсу булып күренә. Si3N4 фильмының реактив индексы 2,0 белән 2,5 арасында иң яхшысы. Алкоголь гадәттә аның реактив индексын үлчәү өчен кулланыла.
Искиткеч өслек пассивлаштыру эффекты, эффектив оптик анти-чагылдыру эффективлыгы (калынлыкның реактив индексы туры килү), түбән температура процессы (чыгымнарны эффектив киметү), һәм барлыкка килгән H ионнары кремний вафин өслеген пассивлаштыралар.
3. Каплау цехында гомуми сораулар
Фильм калынлыгы:
Төрле кино калынлыгы өчен чүпләү вакыты төрле. Чүпләү вакыты тиешенчә арттырылырга яки каплау төсе буенча киметелергә тиеш. Әгәр дә фильм ак булса, чүпләү вакыты кыскартылырга тиеш. Әгәр дә кызыл булса, аны тиешенчә арттырырга кирәк. Фильмнарның һәр көймәсе тулысынча расланырга тиеш, җитешсез продуктлар киләсе процесска керергә рөхсәт ителми. Мәсәлән, каплау начар булса, мәсәлән, төс таплары һәм су билгеләре, иң киң таралган өслекне агарту, төс аермасы, җитештерү линиясендә ак таплар вакытында сайланырга тиеш. Surfaceир өслеген агарту, нигездә, калын кремний нитрид пленкасы аркасында барлыкка килә, ул фильмны урнаштыру вакытын көйләп көйләнә ала; төс аермасы пленкасы, нигездә, газ юлын блоклау, кварц трубасы агып чыгу, микродулкынлы ватылу һ.б. ак таплар, нигездә, алдагы процесста кечкенә кара таплар аркасында килеп чыга. Рефективлык мониторингы, реактив индекс һ.б., махсус газларның куркынычсызлыгы һ.б.
Surfaceир өстендә ак таплар:
PECVD - кояш күзәнәкләрендә чагыштырмача мөһим процесс һәм компаниянең кояш күзәнәкләренең эффективлыгының мөһим күрсәткече. PECVD процессы гадәттә мәшгуль, һәм күзәнәкләрнең һәр партиясен контрольдә тотарга кирәк. Мич торбалары бик күп, һәм һәр трубаның гадәттә йөзләгән күзәнәкләре бар (җиһазларга карап). Процесс параметрларын үзгәрткәннән соң, тикшерү циклы озын. Каплау технологиясе - бөтен фотоволтаик индустрия зур әһәмияткә ия булган технология. Кояш күзәнәкләренең эффективлыгын каплау технологиясен камилләштереп яхшыртырга мөмкин. Киләчәктә кояш күзәнәкләренең өслеге технологиясе кояш күзәнәкләренең теоретик эффективлыгында алгарыш булырга мөмкин.
Пост вакыты: 23-2024 декабрь