Кремний өслегендә кремний диоксиды формалашу оксидлашу дип атала, һәм тотрыклы һәм нык ябыштырылган кремний диоксиды барлыкка китерү кремний интеграль схема планар технологиясе барлыкка килүенә китерде. Кремний диоксиды турыдан-туры кремний өслегендә үстерүнең күп ысуллары булса да, ул гадәттә җылылык оксидлашуы белән башкарыла, ул кремнийны югары температурада оксидлаштыру мохитенә (кислород, су) китерә. Термаль оксидлаштыру ысуллары кремний диоксиды пленкаларын әзерләгәндә кино калынлыгын һәм кремний / кремний диоксиды интерфейс үзенчәлекләрен контрольдә тота ала. Кремний газын үстерүнең башка ысуллары - плазма анодизациясе һәм дымлы анодизация, ләкин бу ысулларның берсе дә VLSI процессларында киң кулланылмады.
Кремний тотрыклы кремний диоксиды формалаштыру тенденциясен күрсәтә. Әгәр дә яңа ярылган кремний оксидлаштыручы мохиткә (кислород, су кебек) тәэсир итсә, ул бүлмә температурасында да бик нечкә оксид катламын (<20Å) барлыкка китерәчәк. Кремний югары температурада оксидлаштыручы мохиткә эләккәндә, калынрак оксид катламы тизрәк тизлектә барлыкка киләчәк. Кремнийдан кремний диоксиды формалашуның төп механизмы яхшы аңлашыла. Дил һәм Гров математик модель эшләделәр, 300Å калынрак оксид фильмнарының үсеш динамикасын төгәл тасвирлыйлар. Алар оксидлаштыру түбәндәге ысул белән башкарылырга тәкъдим иттеләр, ягъни оксидант (су молекулалары һәм кислород молекулалары) булган оксид катламы аша Si / SiO2 интерфейсына таралалар, анда оксидан кремний белән реакциядә кремний диоксиды барлыкка китерәләр. Кремний газын формалаштыруның төп реакциясе түбәндәгечә сурәтләнә:
Оксидлаштыру реакциясе Si / SiO2 интерфейсында була, шуңа күрә оксид катламы үскәч, кремний өзлексез кулланыла һәм интерфейс кремнийга әкренләп керә. Кремний һәм кремний диоксидының тиешле тыгызлыгы һәм молекуляр авырлыгы буенча, соңгы оксид катламы калынлыгы өчен кулланылган кремнийның 44% тәшкил итүен табарга мөмкин. Шул рәвешле, оксид катламы 10,000Å үссә, 4400Å кремний кулланылачак. Бу бәйләнеш формалашкан адымнарның биеклеген исәпләү өчен мөһимкремний вафин. Адымнар кремний вафин өслегендә төрле урыннарда төрле оксидлашу темплары нәтиҗәсе.
Без шулай ук югары чисталыклы графит һәм кремний карбид продуктлары белән тәэмин итәбез, алар оксидлашу, диффузия һәм аннальинг кебек вафер эшкәртүдә киң кулланыла.
Киләсе сөйләшү өчен безгә бөтен дөньядан килгән клиентларны рәхим итегез!
https://www.vet-china.com/
Пост вакыты: 13-2024 ноябрь