kimyasal buhar biriktirme (CVD), bir gaz karışımının kimyasal kimyasal reaksiyonu yoluyla silikon levhanın yüzeyine katı bir film yerleştirmeyi içeren bir prosedürdür. Bu prosedür, basınç ve öncü gibi farklı kimyasal reaksiyon koşullarına göre oluşturulan çeşitli ekipman modellerine bölünebilir.
Bu iki cihaz hangi prosedür için kullanılıyor?PECVD (Plazma Geliştirilmiş) ekipmanı, OX, Nitrür, metalik element kapısı ve amorf karbon gibi uygulamalarda yaygın olarak kullanılmaktadır. Öte yandan, LPCVD (Düşük Güç) genellikle Nitrür, poli ve TEOS için kullanılır.
Prensip nedir?PECVD teknolojisi, işlem odasının katodunda tazelik deşarjını tetiklemek için düşük sıcaklıktaki plazmayı kullanarak plazma enerjisini ve CVD'yi birleştirir. Bu, numune yüzeyinde katı bir film oluşturmak için kimyasal ve plazma kimyasal reaksiyonunun kontrol edilmesine izin verdi. Benzer şekilde, LPCVD'nin reaktördeki kimyasal reaksiyon gaz basıncını düşürecek şekilde çalışması planlanıyor.
Yapay zekayı insanlaştırın: Humanize AI'nin CVD teknolojisi alanında kullanılması, film biriktirme prosedürünün verimliliğini ve doğruluğunu büyük ölçüde artırabilir. AI algoritmasından yararlanılarak iyon parametresi, gaz akış hızı, sıcaklık ve film kalınlığı gibi parametrelerin izlenmesi ve ayarlanması daha iyi sonuçlar için optimize edilebilir.
Gönderim zamanı: 24 Ekim 2024