O le teuina o ausa vaila'au ( CVD ) o se faiga e aofia ai le fa'atūina o se ata tifaga malo i luga o le fa'aele'ele o le silicon wafer e ala i se fa'a'ese'esega fa'ama'i o se paluga kasa. O lenei faiga e mafai ona vaevaeina i fa'ata'ita'iga meafaigaluega eseese fa'avae i luga o tulaga fa'a-kemikolo eseese e pei o le mamafa ma le mea muamua.
O le a le faiga o lo'o fa'aogaina ai nei masini e lua?PECVD ( Plasma Enhanced ) meafaigaluega e faʻaaogaina lautele i le faʻaogaina e pei ole OX, Nitride, metallic element gate, ma amorphous carbon. I le isi itu, LPCVD ( Low Power ) e masani ona faʻaaogaina mo Nitride, poly, ma TEOS.
O le a le mataupu faavae?O tekinolosi a le PECVD e tu'ufa'atasia ai le malosi o le plasma ma le CVD e ala i le fa'aogaina o le plasma maualalo-vevela e fa'aoso ai le fa'afou fou i le cathode o le potu fa'atino. Ole fa'ataga lea mo le fa'atonutonuina ole vaila'au ma le plasma chemical reaction e fai ai se ata tifaga mautu ile fa'ata'ita'iga. E fa'apena fo'i, o lo'o fuafua le LPCVD e fa'agaoioi i le fa'aitiitia o le mamafa o le kasa i totonu o le reactor.
fa'aletagata AI: O le faʻaogaina o le Humanize AI i le matata o tekinolosi CVD e mafai ona faʻaleleia atili ai le lelei ma le saʻo o le faʻaogaina o ata tifaga. E ala i le leverage AI algorithm, o le mataʻituina ma le fetuunaiga o parakalafa e pei o le ion parameter, fua o le kesi, vevela, ma le mafiafia o ata tifaga e mafai ona sili atu ona lelei mo iuga sili atu.
Taimi meli: Oke-24-2024