Chemical Vapor Deposition (CVD) o se tekinolosi faʻapipiʻi ata manifinifi taua, e masani ona faʻaaogaina e saunia ai ata tifaga eseese ma mea manifinifi, ma e faʻaaogaina lautele i le gaosiga o semiconductor ma isi fanua.
1. Ta'iala galue o le CVD
I le faagasologa o le CVD, o se kasa muamua (se tasi poʻo le sili atu o le kasa faʻapipiʻi muamua) e faʻafesoʻotaʻi ma le substrate surface ma faʻavevela i se vevela faapitoa e mafua ai se gaioiga faʻamaʻi ma teuina i luga o le substrate surface e fausia ai le ata manaʻomia poʻo le ufiufi. fa'avae. O le mea e maua mai i lenei gaioiga fa'a-kemikolo e malosi, e masani lava o se tuufaatasiga o mea e mana'omia. Afai tatou te mananaʻo e faʻapipiʻi le silicon i luga, e mafai ona tatou faʻaogaina le trichlorosilane (SiHCl3) e fai ma kesi muamua: SiHCl3 → Si + Cl2 + HCl Silicon o le a fusifusia i soʻo se mea faʻaalia (i totonu ma fafo), ae o kasa chlorine ma hydrochloric acid o le a. ia alu ese mai le potu.
2. Fa'avasegaga CVD
CVD vevela: E ala i le faʻamafanafanaina o le kasa muamua e pala ma teu i luga o le mea'ai. Plasma Enhanced CVD (PECVD): Ua faaopoopo le Plasma i le CVD vevela e faʻaleleia ai le fua o le tali ma pulea le faagasologa o le teuina. Metal Organic CVD (MOCVD): O le faʻaaogaina o mea faʻameamea uʻamea e fai ma kasa muamua, e mafai ona saunia ata manifinifi o metala ma semiconductor, ma e masani ona faʻaaogaina i le gaosiga o masini e pei o LED.
3. Fa'aoga
(1) Fausiaina semiconductor
Silicide ata tifaga: faʻaaogaina e saunia ai faʻamaʻi faʻapipiʻi, substrates, faʻaesea faʻapitoa, ma isi ata Nitride: faʻaaogaina e saunia ai le nitride silicon, aluminium nitride, ma isi, faʻaaogaina i LED, masini eletise, ma isi. laulau, ma isi.
(2) Fa'aaliga tekinolosi
Ata tifaga ITO: Ata fa'a'ave'ave fa'amalama, e masani ona fa'aogaina i fa'aaliga mafolafola ma lau pa'i. Ata tifaga: faʻaaogaina e saunia ai faʻapipiʻi faʻapipiʻi, laina conductive, ma isi, e faʻaleleia ai le faʻatinoga o masini faʻaaliga.
(3) Isi fanua
Faʻapipiʻi mata: e aofia ai faʻamaʻi faʻataʻitaʻiga, filiga mataʻutia, ma isi mea faʻapipiʻi Anti-corrosion: faʻaaogaina i vaega taʻavale, masini aerospace, ma isi.
4. Uiga o le faagasologa CVD
Fa'aaogā le si'osi'omaga maualuga le vevela e fa'alauiloa ai le saosaoa o tali. E masani ona faia i totonu o se siosiomaga gaogao. O mea leaga i luga o le vaega e tatau ona aveese aʻo leʻi valiina. O le faagasologa e mafai ona i ai ni tapula'a i luga o mea'ai e mafai ona ufiufi, e pei o tapulaʻa vevela poʻo tapulaʻa gaioiga. O le ufiufi CVD o le a ufiufi uma vaega o le vaega, e aofia ai filo, pu tauaso ma luga o totonu. E mafai ona fa'atapula'aina le mafai ona ufiufi vaega fa'apitoa. O le mafiafia o ata e fa'atapula'aina e ala i le fa'agasologa ma tulaga fa'aletino. Pi'i maualuga.
5. Tulaga lelei o tekinolosi CVD
Tulaga tutusa: E mafai ona maua le fa'aputuga tutusa i luga o substrates vaega tetele.
Pulea: E mafai ona fetuutuunai le fua faatatau o le teuina ma ata tifaga e ala i le puleaina o le tafe ma le vevela o le kesi muamua.
Versatility: E talafeagai mo le teuina o mea eseese, e pei o metals, semiconductors, oxides, etc.
Taimi meli: Me-06-2024