Najnižja cena za Kitajsko. Visokokakovosten grafitni grelec po meri za peč za polikristalni silicij.

Najnižja cena za Kitajsko. Visokokakovosten grafitni grelec po meri za polikristalno silicijevo ingotno peč. Predstavljena slika

Kratek opis:

Čistost < 5 ppm
‣ Dobra enotnost dopinga
‣ Visoka gostota in oprijem
‣ Dobra odpornost proti koroziji in ogljiku

‣ Profesionalna prilagoditev
‣ Kratek dobavni rok
‣ Stabilna oskrba
‣ Nadzor kakovosti in nenehne izboljšave

Epitaksija GaN na safirju(RGB/mini/mikro LED);Epitaksija GaN na silicijskem substratu(UVC);Epitaksija GaN na silicijskem substratu(Elektronska naprava);Epitaksija Si na Si substrat(integrirano vezje);Epitaksija SiC na SiC substrat(podlaga);Epitaksija InP na InP

Pošljite nam e-pošto Prenesi kot PDF

Podrobnosti o izdelku

Oznake izdelkov

Še naprej povečujemo in izpopolnjujemo naše rešitve in storitve. Hkrati aktivno delujemo za raziskave in izboljšave za najnižjo ceno za Kitajsko. Visokokakovosten grafitni grelec po meri za polikristalno silicijevo peč za ingote. Naše podjetje je hitro zraslo v velikosti in priljubljenosti zaradi svoje absolutne predanosti vrhunski kakovosti proizvodnje, visoke cene izdelki in fantastičen ponudnik strank.
Še naprej povečujemo in izpopolnjujemo naše rešitve in storitve. Hkrati aktivno delujemo na področju raziskav in izboljšavKitajska grafitna grelna peč, Grafitno toplotno polje, Vsi naši izdelki in rešitve so bili pred odpremo strogo pregledani samo za doseganje kakovostnega izdelka, ki bo ustrezal povpraševanju strank. Vedno razmišljamo o vprašanju na strani strank, kajti vi zmagate, mi zmagamo!

2022 visokokakovosten susceptor MOCVD Kupite na spletu na Kitajskem

Navidezna gostota:	1,85 g/cm3
Električna upornost:	11 μΩm
Upogibna trdnost:	49 MPa (500 kgf/cm2)
Trdota po Shoru:	58
Pepel:	<5 ppm
Toplotna prevodnost:	116 W/mK (100 kcal/mhr-℃)

Vafer je rezina silicija, debela približno 1 milimeter, ki ima izjemno ravno površino zaradi tehnično zelo zahtevnih postopkov. Nadaljnja uporaba določa, kateri postopek gojenja kristalov je treba uporabiti. V postopku Czochralskega se na primer polikristalni silicij stopi in v staljeni silicij potopi kot svinčnik tanek zarodni kristal. Zarodni kristal se nato zavrti in počasi potegne navzgor. Rezultat je zelo težek kolos, monokristal. Možno je izbrati električne karakteristike monokristala z dodajanjem majhnih enot dopantov visoke čistosti. Kristale dopiramo v skladu s specifikacijami naročnika, nato pa jih poliramo in narežemo na rezine. Po različnih dodatnih proizvodnih korakih kupec prejme določene napolitanke v posebni embalaži, ki mu omogoča takojšnjo uporabo napolitanke v svoji proizvodni liniji.

Rezina mora prestati več korakov, preden je pripravljena za uporabo v elektronskih napravah. Eden od pomembnih postopkov je silicijeva epitaksija, pri kateri se rezine prenašajo na grafitne sprejemnike. Lastnosti in kakovost suceptorjev odločilno vplivajo na kakovost epitaksialne plasti rezine.

Za faze nanašanja tankega filma, kot sta epitaksija ali MOCVD, VET dobavlja opremo z ultra čistim grafitom, ki se uporablja za podporo substratov ali "rezin". V središču procesa je ta oprema, epitaksijski suceptorji ali satelitske platforme za MOCVD, najprej izpostavljena okolju nanašanja:

Visoka temperatura.
Visok vakuum.
Uporaba agresivnih plinastih predhodnikov.
Nič kontaminacije, odsotnost luščenja.
Odpornost na močne kisline med čiščenjem