Držiak grafitového substrátu pre PECVD

Držiak grafitového substrátu na doštičku pre PECVD Featured Image

Stručný popis:

Držiak grafitového substrátu VET Energy je navrhnutý tak, aby udržal zarovnanie a stabilitu plátku počas celého procesu PECVD, čím sa predchádza kontaminácii a minimalizuje sa riziko poškodenia. Držiak grafitových plátkov poskytuje bezpečnú, rovnomernú platformu, ktorá zaisťuje, že plátky sú rovnomerne vystavené plazme pre konzistentné a vysokokvalitné nanášanie. Vďaka svojej vysokej tepelnej vodivosti a výnimočnej pevnosti pomáha tento držiak zlepšiť celkovú efektivitu procesu a výkonnosť produktu.

Pošlite nám e-mail Stiahnuť ako PDF

Detail produktu

Štítky produktu

VET Energy Graphite Substrate Wafer Holder je presný nosič navrhnutý pre proces PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). Tento vysokokvalitný držiak grafitového substrátu je vyrobený z vysoko čistého grafitového materiálu s vysokou hustotou, s vynikajúcou odolnosťou voči vysokej teplote, odolnosťou proti korózii, rozmerovou stálosťou a ďalšími vlastnosťami. Môže poskytnúť stabilnú podpornú platformu pre proces PECVD a zabezpečiť rovnomernosť a rovinnosť nanášania filmu.

VET Energy PECVD procesná tabuľka grafitových plátkov má nasledujúce charakteristiky:

▪Vysoká čistota:extrémne nízky obsah nečistôt, zabráňte kontaminácii filmu, zaistite kvalitu filmu.

▪Vysoká hustota:vysoká hustota, vysoká mechanická pevnosť, vydrží vysoké teploty a vysoký tlak prostredia PECVD.

▪Dobrá rozmerová stabilita:malá rozmerová zmena pri vysokej teplote zaisťujúca stabilitu procesu.

▪Vynikajúca tepelná vodivosť:účinne prenáša teplo, aby sa zabránilo prehriatiu plátku.

▪Silná odolnosť proti korózii:môže odolávať erózii rôznymi korozívnymi plynmi a plazmou.

▪Prispôsobená služba:grafitové podporné stoly rôznych veľkostí a tvarov je možné prispôsobiť podľa potrieb zákazníka.

Výhody produktu

▪Zlepšenie kvality filmu:Zabezpečte rovnomerné ukladanie filmu a zvýšte kvalitu filmu.

▪Predĺžte životnosť zariadenia:Vynikajúca odolnosť proti korózii, predlžuje životnosť zariadenia PECVD.

▪Znížte výrobné náklady:Vysokokvalitné grafitové podnosy môžu znížiť množstvo odpadu a znížiť výrobné náklady.

Grafitový materiál od SGL:

Typický parameter: R6510
Index	Skúšobný štandard	Hodnota	Jednotka
Priemerná veľkosť zrna	ISO 13320	10	μm
Objemová hmotnosť	DIN IEC 60413/204	1,83	g/cm³
Otvorená pórovitosť	DIN66133	10	%
Stredná veľkosť pórov	DIN66133	1.8	μm
Priepustnosť	DIN 51935	0,06	cm²/s
Tvrdosť podľa Rockwella HR5/100	DIN IEC60413/303	90	HR
Špecifický elektrický odpor	DIN IEC 60413/402	13	μΩm
Pevnosť v ohybe	DIN IEC 60413/501	60	MPa
Pevnosť v tlaku	DIN 51910	130	MPa
Youngov modul	DIN 51915	11,5 × 10³	MPa
Tepelná rozťažnosť (20-200 ℃)	DIN 51909	4,2 x 10^-6	K^-1
Tepelná vodivosť (20℃)	DIN 51908	105	Wm^-1K^-1

Je špeciálne navrhnutý pre vysokoúčinnú výrobu solárnych článkov s podporou spracovania veľkých plátkov G12. Optimalizovaný dizajn nosiča výrazne zvyšuje priepustnosť, umožňuje vyššiu výnosnosť a nižšie výrobné náklady.

Položka	Typ	Číslo nosiča oblátok
PEVCD Grephite čln - Séria 156	156-13 grephite čln	144
	156-19 grephite čln	216
	156-21 grefitový čln	240
	156-23 grafitový čln	308
PEVCD Grephite čln - Séria 125	125-15 grephite čln	196
	125-19 grephite čln	252
	125-21 grphite čln	280