Epitaxný epigrafitový barelový susceptor

Epitaxný epigrafitový barelový susceptor

Epitaxný epigrafitový barelový susceptorje špeciálne navrhnuté podporné a ohrievacie zariadenie používané na pridržiavanie a zahrievanie polovodičových substrátov počas výrobných procesov, ako sú procesy nanášania alebo epitaxie.

Jeho štruktúra zahŕňa typicky valcový alebo mierne súdkovitý tvar, povrch má viacero vreciek alebo plošín na umiestnenie plátkov, môže byť plný alebo dutý, v závislosti od spôsobu ohrevu.

Hlavné funkcie epitaxného sudového susceptora:

-Podpera substrátu: bezpečne drží viacero polovodičových doštičiek;
-Zdroj tepla: poskytuje vysoké teploty potrebné pre rast pomocou zahrievania;
- Rovnomernosť teploty: zabezpečuje rovnomerné zahrievanie substrátov;
- Rotácia: zvyčajne sa otáča počas rastu, aby sa zlepšila rovnomernosť teploty a distribúcie plynu.

Princíp fungovania grafitového valcového susceptora Epi:
- V epitaxiálnom reaktore sa valcový susceptor zahrieva na požadovanú teplotu (typicky 1000 °C - 1200 °C pre kremíkovú epitaxiu);
-Susceptor valca sa otáča, aby sa zabezpečilo rovnomerné rozloženie teploty a prietok plynu;
-Reakčné plyny sa pri vysokých teplotách rozkladajú a vytvárajú epitaxné vrstvy na povrchu substrátu.

Aplikácie:
- Primárne sa používa na silikónový epitaxný rast
-Použiteľné aj pre epitaxiu iných polovodičových materiálov, ako sú GaAs, InP atď.

VET Energy používa vysoko čistý grafit s CVD-SiC povlakom na zvýšenie chemickej stability:

Výhody VET Energy Epitaxial Epi Graphite Barrel Susceptor:

- stabilita pri vysokej teplote;
- dobrá tepelná rovnomernosť;
-Môže spracovať viacero substrátov súčasne, čím sa zlepší efektívnosť výroby;
-Chemicky inertný, udržiavajúci rastové prostredie s vysokou čistotou.