පුවත්

සිලිකන් කාබයිඩ් ග්රැෆයිට් අච්චුවේ ලක්ෂණ
24-07-18 දින පරිපාලක විසිනි
සිලිකන් කාබයිඩ් ග්‍රැෆයිට් අච්චුව සිලිකන් කාබයිඩ් ග්‍රැෆයිට් අච්චුව යනු සිලිකන් කාබයිඩ් (SiC) පදනම ලෙසත් මිනිරන් ශක්තිමත් කිරීමේ ද්‍රව්‍ය ලෙසත් ඇති සංයුක්ත අච්චුවකි. මෙම අච්චුව විශිෂ්ට තාප සන්නායකතාවය, ඉහළ උෂ්ණත්ව ප්රතිරෝධය, විඛාදන ප්රතිරෝධය සහ නැවත පැළඳීම ...
තවත් කියවන්න
අර්ධ සන්නායක ක්රියාවලිය ඡායාරූප ශිලා ලේඛනයේ සම්පූර්ණ ක්රියාවලිය
24-07-16 දින පරිපාලක විසිනි
එක් එක් අර්ධ සන්නායක නිෂ්පාදනයක් නිෂ්පාදනය කිරීම සඳහා ක්‍රියාවලි සිය ගණනක් අවශ්‍ය වේ. අපි සම්පූර්ණ නිෂ්පාදන ක්‍රියාවලිය පියවර අටකට බෙදන්නෙමු: වේෆර් සැකසීම-ඔක්සිකරණය-ඡායාරූපකරණය-සිහින් චිත්‍රපට තැන්පත් කිරීම-පිටාක්ෂීය වර්ධනය-විසරණය-අයන තැන්පත් කිරීම. ඔබට උදව් කිරීමට...
තවත් කියවන්න
බිලියන 4ක්! SK Hynix පර්ඩියු පර්යේෂණ උද්‍යානයේ අර්ධ සන්නායක උසස් ඇසුරුම් ආයෝජනය නිවේදනය කරයි
24-07-09 දින පරිපාලක විසිනි
West Lafayette, Indiana - SK hynix Inc. පර්ඩියු පර්යේෂණ උද්‍යානයේ කෘත්‍රිම බුද්ධි නිෂ්පාදන සඳහා උසස් ඇසුරුම් නිෂ්පාදන සහ පර්යේෂණ සහ සංවර්ධන පහසුකම ගොඩනැගීම සඳහා ඩොලර් බිලියන 4 කට ආසන්න මුදලක් ආයෝජනය කිරීමට සැලසුම් කරන බව නිවේදනය කළේය. බටහිර ලෆායෙට් හි එක්සත් ජනපද අර්ධ සන්නායක සැපයුම් දාමයේ ප්‍රධාන සම්බන්ධකයක් ස්ථාපිත කිරීම...
තවත් කියවන්න
ලේසර් තාක්ෂණය සිලිකන් කාබයිඩ් උපස්ථර සැකසුම් තාක්ෂණය පරිවර්තනය කරයි
24-07-08 දින පරිපාලක විසිනි
1. සිලිකන් කාබයිඩ් උපස්ථර සැකසුම් තාක්ෂණය පිළිබඳ දළ විශ්ලේෂණය වත්මන් සිලිකන් කාබයිඩ් උපස්ථර සැකසීමේ පියවරවලට ඇතුළත් වන්නේ: පිටත කවය ඇඹරීම, පෙති කැපීම, ඇඹරීම, ඇඹරීම, ඔප දැමීම, පිරිසිදු කිරීම යනාදිය අර්ධ සන්නායක උපස්ථර ප්‍රොක්සියේ වැදගත් පියවරකි.
තවත් කියවන්න
ප්රධාන ධාරාවේ තාප ක්ෂේත්ර ද්රව්ය: C/C සංයුක්ත ද්රව්ය
24-07-01 දින පරිපාලක විසිනි
කාබන්-කාබන් සංයෝග යනු කාබන් ෆයිබර් සංයෝග වර්ගයකි, කාබන් ෆයිබර් ශක්තිමත් කිරීමේ ද්‍රව්‍ය ලෙස සහ තැන්පත් කාබන් අනුකෘති ද්‍රව්‍ය ලෙස ඇත. C/C සංයෝගවල අනුකෘතිය කාබන් වේ. එය මුලුමනින්ම පාහේ මූලද්‍රව්‍ය කාබන් වලින් සමන්විත වන බැවින්, එය විශිෂ්ට ඉහළ උෂ්ණත්ව ප්‍රතිරෝධයක් ඇත...
තවත් කියවන්න
SiC ස්ඵටික වර්ධනය සඳහා ප්රධාන තාක්ෂණික ක්රම තුනක්
24-07-01 දින පරිපාලක විසිනි
Fig. 3 හි පෙන්වා ඇති පරිදි, SiC තනි ස්ඵටිකයක් උසස් තත්ත්වයෙන් සහ කාර්යක්ෂමතාවයෙන් සැපයීම අරමුණු කරගත් ප්‍රමුඛ තාක්ෂණික ක්‍රම තුනක් ඇත: ද්‍රව අදියර epitaxy (LPE), භෞතික වාෂ්ප ප්‍රවාහනය (PVT) සහ ඉහළ උෂ්ණත්ව රසායනික වාෂ්ප තැන්පත් කිරීම (HTCVD). PVT යනු SiC sin නිෂ්පාදනය සඳහා හොඳින් ස්ථාපිත ක්‍රියාවලියකි...
තවත් කියවන්න
තුන්වන පරම්පරාවේ අර්ධ සන්නායක GaN සහ අදාළ epitaxial තාක්ෂණය කෙටි හැඳින්වීම
24-06-28 දින පරිපාලක විසිනි
1. තුන්වන පරම්පරාවේ අර්ධ සන්නායක පළමු පරම්පරාවේ අර්ධ සන්නායක තාක්ෂණය නිපදවන ලද්දේ Si සහ Ge වැනි අර්ධ සන්නායක ද්‍රව්‍ය පදනම් කරගෙනය. එය ට්රාන්සිස්ටර සහ ඒකාබද්ධ පරිපථ තාක්ෂණය සංවර්ධනය සඳහා ද්රව්යමය පදනම වේ. පළමු පරම්පරාවේ අර්ධ සන්නායක ද්රව්ය f...
තවත් කියවන්න
බිලියන 23.5, Suzhou හි සුපිරි යුනිකෝන් IPO වෙත යයි
24-06-28 දින පරිපාලක විසිනි
වසර 9 ක ව්‍යවසායකත්වයකින් පසු, Innoscience විසින් මුළු මූල්‍යකරණයෙන් යුවාන් බිලියන 6 කට වඩා වැඩි ප්‍රමාණයක් රැස් කර ඇති අතර එහි තක්සේරුව විස්මිත යුවාන් බිලියන 23.5 දක්වා ළඟා වී තිබේ. ආයෝජකයින්ගේ ලැයිස්තුව සමාගම් දුසිම් ගණනක් තරම් දිගු වේ: Fukun Venture Capital, Dongfang රජය සතු වත්කම්, Suzhou Zhanyi, Wujian...
තවත් කියවන්න
ටැන්ටලම් කාබයිඩ් ආලේපිත නිෂ්පාදන ද්‍රව්‍යවල විඛාදන ප්‍රතිරෝධය වැඩි දියුණු කරන්නේ කෙසේද?
24-06-25 දින පරිපාලක විසිනි
ටැන්ටලම් කාබයිඩ් ආලේපනය යනු ද්‍රව්‍යවල විඛාදන ප්‍රතිරෝධය සැලකිය යුතු ලෙස වැඩිදියුණු කළ හැකි බහුලව භාවිතා වන මතුපිට ප්‍රතිකාර තාක්‍ෂණයකි. ටැන්ටලම් කාබයිඩ් ආලේපනය රසායනික වාෂ්ප තැන්පත් කිරීම, භෞතික...
තවත් කියවන්න