Новости

  • Обычно используемые подставки для газофазной эпитаксии

    Обычно используемые подставки для газофазной эпитаксии

    В процессе парофазной эпитаксии (VPE) роль подставки заключается в поддержке подложки и обеспечении равномерного нагрева в процессе роста. Различные типы пьедесталов подходят для разных условий выращивания и материальных систем. Ниже приведены некоторые...
    Читать далее
  • Как продлить срок службы изделий с покрытием из карбида тантала?

    Как продлить срок службы изделий с покрытием из карбида тантала?

    Изделия с покрытием из карбида тантала представляют собой широко используемый высокотемпературный материал, характеризующийся высокой термостойкостью, коррозионной стойкостью, износостойкостью и т. д. Поэтому они широко используются в таких отраслях, как аэрокосмическая, химическая и энергетическая. Для того, чтобы экс...
    Читать далее
  • В чем разница между PECVD и LPCVD в полупроводниковом CVD-оборудовании?

    В чем разница между PECVD и LPCVD в полупроводниковом CVD-оборудовании?

    Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) — это процесс нанесения твердой пленки на поверхность кремниевой пластины посредством химической реакции газовой смеси. В зависимости от различных условий реакции (давление, прекурсор) его можно разделить на различное оборудование...
    Читать далее
  • Характеристики графитовой формы из карбида кремния

    Характеристики графитовой формы из карбида кремния

    Графитовая форма из карбида кремния. Графитовая форма из карбида кремния представляет собой композитную форму с карбидом кремния (SiC) в качестве основы и графитом в качестве армирующего материала. Эта форма имеет превосходную теплопроводность, устойчивость к высоким температурам, коррозионную стойкость и...
    Читать далее
  • Полупроводниковый процесс, полный процесс фотолитографии

    Полупроводниковый процесс, полный процесс фотолитографии

    Производство каждого полупроводникового продукта требует сотен процессов. Мы делим весь производственный процесс на восемь этапов: обработка пластин-окисление-фотолитография-травление-нанесение тонких пленок-эпитаксиальный рост-диффузия-ионная имплантация. Чтобы помочь вам...
    Читать далее
  • 4 миллиарда! SK Hynix объявляет об инвестициях в передовую упаковку для полупроводников в исследовательском парке Purdue

    4 миллиарда! SK Hynix объявляет об инвестициях в передовую упаковку для полупроводников в исследовательском парке Purdue

    Вест-Лафайет, Индиана – SK hynix Inc. объявила о планах инвестировать почти 4 миллиарда долларов в строительство передового производства упаковки и научно-исследовательского центра для продуктов искусственного интеллекта в исследовательском парке Purdue. Создание ключевого звена в цепочке поставок полупроводников США в Уэст-Лафайетте...
    Читать далее
  • Лазерные технологии ведут к трансформации технологии обработки подложек из карбида кремния

    Лазерные технологии ведут к трансформации технологии обработки подложек из карбида кремния

    1. Обзор технологии обработки подложек из карбида кремния. Текущие этапы обработки подложек из карбида кремния включают в себя: шлифовку внешнего круга, нарезку, снятие фасок, шлифование, полировку, очистку и т. д. Нарезка является важным этапом в производстве полупроводниковых подложек.
    Читать далее
  • Основные тепловые полевые материалы: композитные материалы C/C.

    Основные тепловые полевые материалы: композитные материалы C/C.

    Углеродно-углеродные композиты — это разновидность композитов из углеродного волокна, в которых углеродное волокно используется в качестве армирующего материала, а осажденный углерод — в качестве матричного материала. Матрица C/C-композитов – углерод. Поскольку он почти полностью состоит из элементарного углерода, он обладает превосходной устойчивостью к высоким температурам.
    Читать далее
  • Три основных метода выращивания кристаллов SiC

    Три основных метода выращивания кристаллов SiC

    Как показано на рис. 3, существует три доминирующих метода, направленных на получение монокристалла SiC высокого качества и эффективности: жидкофазная эпитаксия (LPE), физический перенос паров (PVT) и высокотемпературное химическое осаждение из паровой фазы (HTCVD). PVT — это хорошо зарекомендовавший себя процесс производства SiC...
    Читать далее
Онлайн-чат WhatsApp!