Suporte para wafer de grafite PECVD

Imagem em destaque do suporte a wafer de grafite PECVD

Breve descrição:

Projetado para precisão e desempenho, o suporte de wafer de grafite da VET Energy é o material ideal para uso em processamento avançado de wafer, onde alta estabilidade térmica e desempenho consistente são essenciais. Esteja você trabalhando com wafers semicondutores ou outros substratos delicados, esse suporte de grafite de alta qualidade aumentará a confiabilidade do seu processo e a qualidade do produto, tornando-o um componente indispensável para a fabricação moderna.

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Detalhes do produto

Etiquetas de produto

O suporte de wafer de grafite do processo VET Energy PECVD é um consumível central projetado para o processo PECVD (deposição química de vapor aprimorada por plasma). Este produto é feito de material de grafite de alta pureza e alta densidade, com excelente resistência a altas temperaturas, resistência à corrosão, estabilidade dimensional e outras características, pode fornecer uma plataforma de suporte estável para o processo PECVD, para garantir a uniformidade e planicidade da deposição do filme.

O design de "suporte de grafite" do suporte de wafer de grafite VET Energy pode não apenas suportar efetivamente o wafer, mas também fornecer estabilidade térmica no ambiente PECVD de alta temperatura e alta pressão para garantir a estabilidade do processo.

O suporte de wafer de grafite do processo VET Energy PECVD tem as seguintes características:

▪Alta pureza:teor de impurezas extremamente baixo, evita a contaminação do filme, para garantir a qualidade do filme.

▪Alta densidade:alta densidade, alta resistência mecânica, pode suportar ambiente PECVD de alta temperatura e alta pressão.

▪Boa estabilidade dimensional:pequenas mudanças dimensionais em alta temperatura para garantir a estabilidade do processo.

▪Excelente condutividade térmica:transferir efetivamente o calor para evitar o superaquecimento do wafer.

▪Forte resistência à corrosão:Capaz de resistir à erosão por vários gases corrosivos e plasma.

▪Serviço personalizado:Mesas de suporte de grafite de diversos tamanhos e formatos podem ser customizadas de acordo com a necessidade do cliente.

Material de grafite da SGL:

Parâmetro típico: R6510
Índice	Padrão de teste	Valor	Unidade
Tamanho médio de grão	ISO 13320	10	μm
Densidade aparente	DIN IEC 60413/204	1,83	g/cm³
Porosidade aberta	DIN66133	10	%
Tamanho de poro médio	DIN66133	1,8	μm
Permeabilidade	RUÍDO 51935	0,06	cm²/s
Dureza Rockwell HR5/100	DIN IEC60413/303	90	HR
Resistividade elétrica específica	DIN IEC 60413/402	13	μΩm
Resistência à flexão	DIN IEC 60413/501	60	MPa
Resistência à compressão	RUÍDO 51910	130	MPa
Módulo de Young	RUÍDO 51915	11,5×10³	MPa
Expansão térmica (20-200°C)	RUÍDO 51909	4,2X10^-6	K^-1
Condutividade térmica (20℃)	RUÍDO 51908	105	Wm^-1K^-1

Ele foi projetado especificamente para fabricação de células solares de alta eficiência, suportando processamento de wafer de grande porte G12. O design otimizado do transportador aumenta significativamente o rendimento, permitindo taxas de rendimento mais altas e custos de produção mais baixos.

Item	Tipo	Porta-wafer numérico
Barco PEVCD Grephite - Série 156	Barco de grafite 156-13	144
	Barco de grafite 156-19	216
	Barco de grafite 156-21	240
	Barco de grafite 156-23	308
Barco PEVCD Grephite - Série 125	Barco de grafite 125-15	196
	Barco de grafite 125-19	252
	Barco grafite 125-21	280