Bandeja de grafite para deposição de bandeja de carregamento PECVD

Bandeja de carregamento PECVD Deposição Bandeja de grafite Imagem em destaque

Breve descrição:

A bandeja de carregamento PECVD da VET Energy foi projetada para fornecer suporte seguro e uniforme para wafers durante a deposição, melhorando a consistência e a qualidade do processo de deposição. Com excelente resistência ao calor, a Bandeja de Grafite ajuda a manter um ambiente controlado dentro das câmaras PECVD, reduzindo o risco de contaminação e garantindo alta eficiência do processo.

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Detalhes do produto

Etiquetas de produto

A bandeja de carregamento VET Energy PECVD é um transportador de precisão projetado para o processo PECVD (deposição química de vapor aprimorada por plasma). Esta bandeja de grafite de deposição de alta qualidade é feita de material de grafite de alta pureza e alta densidade. Possui excelente resistência a altas temperaturas, resistência à corrosão, estabilidade dimensional e outras características. Ele pode fornecer uma plataforma transportadora estável para o processo PECVD e garantir a uniformidade e planicidade da deposição do filme.

As bandejas de carregamento VET Energy PECVD são amplamente utilizadas em semicondutores, fotovoltaicos, LED e outros campos. Por exemplo:

▪ Semicondutor: Processo PECVD para materiais semicondutores, como pastilhas de silício e pastilhas epitaxiais.

▪ Fotovoltaico: processo PECVD para filmes finos de células solares.

▪ LED: Processo PECVD para chips LED.

Vantagens do produto

▪Melhore a qualidade do filme:Garanta a deposição uniforme do filme e melhore a qualidade do filme.

▪Prolongue a vida útil do equipamento:Excelente resistência à corrosão, prolonga a vida útil do equipamento PECVD.

▪Reduza os custos de produção:Bandejas de grafite de alta qualidade podem reduzir a taxa de refugo e reduzir os custos de produção.

Material de grafite da SGL:

Parâmetro típico: R6510
Índice	Padrão de teste	Valor	Unidade
Tamanho médio de grão	ISO 13320	10	μm
Densidade aparente	DIN IEC 60413/204	1,83	g/cm³
Porosidade aberta	DIN66133	10	%
Tamanho de poro médio	DIN66133	1,8	μm
Permeabilidade	RUÍDO 51935	0,06	cm²/s
Dureza Rockwell HR5/100	DIN IEC60413/303	90	HR
Resistividade elétrica específica	DIN IEC 60413/402	13	μΩm
Resistência à flexão	DIN IEC 60413/501	60	MPa
Resistência à compressão	RUÍDO 51910	130	MPa
Módulo de Young	RUÍDO 51915	11,5×10³	MPa
Expansão térmica (20-200°C)	RUÍDO 51909	4,2X10^-6	K^-1
Condutividade térmica (20℃)	RUÍDO 51908	105	Wm^-1K^-1

Ele foi projetado especificamente para fabricação de células solares de alta eficiência, suportando processamento de wafer de grande porte G12. O design otimizado do transportador aumenta significativamente o rendimento, permitindo taxas de rendimento mais altas e custos de produção mais baixos.

Item	Tipo	Porta-wafer numérico
Barco PEVCD Grephite - Série 156	Barco de grafite 156-13	144
	Barco de grafite 156-19	216
	Barco de grafite 156-21	240
	Barco de grafite 156-23	308
Barco PEVCD Grephite - Série 125	Barco de grafite 125-15	196
	Barco de grafite 125-19	252
	Barco grafite 125-21	280