ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ (ସିସି) ହେଉଛି ଏକ ନୂତନ ଯ ound ଗିକ ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ସାମଗ୍ରୀ | ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡରେ ଏକ ବଡ଼ ବ୍ୟାଣ୍ଡ ଫାଙ୍କା (ପ୍ରାୟ 3 ଗୁଣ ସିଲିକନ୍), ଉଚ୍ଚ କ୍ରିକେଟ୍ ଫିଲ୍ଡ ଶକ୍ତି (ପ୍ରାୟ 10 ଗୁଣ ସିଲିକନ୍), ଉଚ୍ଚ ତାପଜ ଚାଳନା (ପ୍ରାୟ 3 ଗୁଣ ସିଲିକନ୍) ଅଛି | ଏହା ଏକ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ ପରବର୍ତ୍ତୀ ପି generation ଼ିର ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ସାମଗ୍ରୀ | ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ଶିଳ୍ପ ଏବଂ ସ ar ର ଫୋଟୋଭୋଲ୍ଟିକ୍ସରେ SiC ଆବରଣ ବହୁଳ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ | ବିଶେଷ ଭାବରେ, ଏଲଇଡି ଏବଂ ସି ସିଙ୍ଗଲ୍ ସ୍ଫଟିକ୍ ଏପିଟାକ୍ସିର ଏପିଟାକ୍ସିଆଲ୍ ଅଭିବୃଦ୍ଧିରେ ବ୍ୟବହୃତ ସସପେପ୍ଟରଗୁଡିକ SiC ଆବରଣର ବ୍ୟବହାର ଆବଶ୍ୟକ କରନ୍ତି | ଆଲୋକ ଏବଂ ପ୍ରଦର୍ଶନ ଶିଳ୍ପରେ ଏଲଇଡିଗୁଡିକର ଦୃ strong ଉପର ଧାରା ଏବଂ ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ଶିଳ୍ପର ଦୃ development ବିକାଶ ହେତୁ,SiC ଆବରଣ ଉତ୍ପାଦ |ଆଶା ବହୁତ ଭଲ |
ପ୍ରୟୋଗ କ୍ଷେତ୍ର
ଶୁଦ୍ଧତା, SEM ଗଠନ, ଘନତା ବିଶ୍ଳେଷଣ |SiC ଆବରଣ |
CVD ବ୍ୟବହାର କରି ଗ୍ରାଫାଇଟ୍ ଉପରେ SiC ଆବରଣର ଶୁଦ୍ଧତା 99.9995% ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ଅଧିକ | ଏହାର ଗଠନ ହେଉଛି fcc | ଗ୍ରାଫାଇଟ୍ ଉପରେ ଆବୃତ SiC ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରଗୁଡିକ (111) XRD ତଥ୍ୟରେ ଦେଖାଯାଇଥିବା ପରି (ଚିତ୍ର 1) ଏହାର ଉଚ୍ଚ ସ୍ଫଟିକ୍ ଗୁଣକୁ ସୂଚାଇଥାଏ | ଚିତ୍ର 2 ରେ ଦେଖାଯାଇଥିବା ପରି SiC ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରର ଘନତା ଅତ୍ୟନ୍ତ ସମାନ |
ଚିତ୍ର 2: ଗ୍ରାଫାଇଟ୍ ଉପରେ SiC ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର SEM ଏବଂ ବିଟା - SiC ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରର XRD ର ମୋଟା ୟୁନିଫର୍ମ |
CVD SiC ପତଳା ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରର SEM ତଥ୍ୟ, ସ୍ଫଟିକ୍ ଆକାର ହେଉଛି 2 ~ 1 Opm |
CVD SiC ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରର ସ୍ଫଟିକ୍ ସଂରଚନା ହେଉଛି ଏକ ମୁଖ-କେନ୍ଦ୍ରିତ ଘନ ଗଠନ, ଏବଂ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଅଭିବୃଦ୍ଧି 100% ପାଖାପାଖି |
ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ (SiC) ଆବୃତ |ଏକକ ସ୍ଫଟିକ୍ ସିଲିକନ୍ ଏବଂ GaN ଏପିଟାକ୍ସି ପାଇଁ ଆଧାର ହେଉଛି ସର୍ବୋତ୍ତମ, ଯାହା ଏପିଟାକ୍ସି ଚୁଲାର ମୂଳ ଉପାଦାନ | ବୃହତ ଇଣ୍ଟିଗ୍ରେଟେଡ୍ ସର୍କିଟ୍ ପାଇଁ ମୋନୋକ୍ରିଷ୍ଟାଲାଇନ୍ ସିଲିକନ୍ ପାଇଁ ଆଧାର ହେଉଛି ଏକ ପ୍ରମୁଖ ଉତ୍ପାଦନ ଆନୁଷଙ୍ଗିକ | ଏହାର ଉଚ୍ଚ ଶୁଦ୍ଧତା, ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରା ପ୍ରତିରୋଧ, କ୍ଷୟ ପ୍ରତିରୋଧ, ଭଲ ବାୟୁ ଦୃ ness ତା ଏବଂ ଅନ୍ୟାନ୍ୟ ଉତ୍କୃଷ୍ଟ ବସ୍ତୁ ଗୁଣ ରହିଛି |
ଉତ୍ପାଦ ପ୍ରୟୋଗ ଏବଂ ବ୍ୟବହାର |
ଏକକ ସ୍ଫଟିକ୍ ସିଲିକନ୍ ଏପିଟାକ୍ସିଆଲ୍ ଅଭିବୃଦ୍ଧି ପାଇଁ ଗ୍ରାଫାଇଟ୍ ବେସ୍ ଆବରଣ ଆକ୍ସଟ୍ରନ୍ ମେସିନ୍ ଇତ୍ୟାଦି ପାଇଁ ଉପଯୁକ୍ତ ଅଟେ | ଆବରଣର ଘନତା: 90 ~ 150um ୱେଫର୍ କ୍ରାଟରର ବ୍ୟାସ 55 ମିମି |
ପୋଷ୍ଟ ସମୟ: ମାର୍ଚ -14-2022 |