Haina Kaihanga SiC Whakakikoruatia Graphite MOCVD Epitaxy Susceptor

Whakaahuatanga Poto:

Pure <5ppm
‣ He pai te whakakotahitanga o te doping
‣ Kiato teitei me te piri
‣ He pai te aukati me te aukati waro

‣ Whakaritenga ngaio
‣ He wa poto
‣ Te tuku pumau
‣ Te whakahaere kounga me te whakapai tonu

Epitaxy o GaN i runga i te Sapphire(RGB/Mini/Micro LED);
Epitaxy o GaN i runga Si Substrate(UVC);
Epitaxy o GaN i runga Si Substrate(Pūrere Hiko);
Epitaxy of Si on Si Substrate(Aiahiko whakauru);
Epitaxy o SiC i runga i te SiC Substrate(Taupapa);
Epitaxy of InP on InP


Taipitopito Hua

Tohu Hua

Kounga teitei MOCVD Susceptor Hokona ipurangi i Haina

2

Me haere te angiangi ki etahi hikoinga i mua i te reri mo te whakamahi i nga taputapu hiko. Ko tetahi mahinga nui ko te epitaxy silicon, e kawe ana nga angiangi ki runga i nga kaitapa kauwhata. Ko nga ahuatanga me te kounga o nga kaitarai he paanga nui ki te kounga o te paparanga epitaxial o te wafer.

Mo nga wahanga whakaheke kiriata angiangi penei i te epitaxy, MOCVD ranei, ka tukuna e te VET he taputapu kauwhata tino parakore hei tautoko i nga taputapu, "wafers" ranei. I te mea nui o te mahi, ko enei taputapu, he epitaxy susceptors, he peerangi papaarangi ranei mo te MOCVD, ka tukuna tuatahi ki te taiao whakaheke:

Te pāmahana teitei.
Korehau teitei.
Te whakamahi i nga kaitapa hau kaitaa.
Kore te poke, te kore o te tihorenga.
Te ātete ki te waikawa kaha i te wa e mahi horoi ana

Ko te VET Energy te tino kaihanga o nga hua graphite me nga hua carbide silicon me te paninga mo te ahumahi semiconductor me te photovoltaic. Ko ta maatau roopu hangarau i ahu mai i nga umanga rangahau o roto o te whare, ka taea te whakarato i nga otinga rauemi ngaio mo koe.

Ka whakawhanake tonu matou i nga tikanga matatau ki te whakarato rauemi matatau ake, a kua mahia e matou he hangarau arai motuhake, e taea ai te hono i waenga i te paninga me te tïpako kia piri, kia iti ake te wariu ki te wehe.

Nga waahanga o a maatau hua:

1. Te teitei o te wera o te waikura ki te 1700 ℃.
2. Te parakore teitei me te riterite waiariki
3. He pai te aukati waikura: te waikawa, te alkali, te tote me nga reagents waro.

4. Te pakeke teitei, te mata kiato, nga matūriki pai.
5. He roa ake te ora mahi me te roa ake

CVD SiC薄膜基本物理性能

Ko nga ahuatanga taketake o te CVD SiCpaninga

性质 / Taonga

典型数值 / Uara Angamaheni

晶体结构 / Hanganga Kiriata

FCC β wāhanga多晶,主要为(111)取向

密度 / Kiato

3.21 g/cm³

硬度 / Te pakeke

2500 维氏硬度(500g uta)

晶粒大小 / Raina witi

2~10μm

纯度 / Te Maamaa

99.99995%

热容 / Raukaha Wera

640 J·kg-1·K-1

升华温度 / Te Mahana Whakararo

2700 ℃

抗弯强度 / Te Kaha Toka

415 MPa RT 4-tohu

杨氏模量 / Young's Modulus

430 Gpa 4pt piko, 1300℃

导热系数 / ThermalTe kawe

300W·m-1·K-1

热膨胀系数 / Roha Ngawha(CTE)

4.5×10-6K-1

1

2

Tena koe ki te toro ki to maatau wheketere, me korero ano!

研发团队

 

生产设备

 

公司客户

 


  • Tōmua:
  • Panuku:

  • WhatsApp Chat Online!