Porous Tantal Carbide Fir SiC Crystal Wuesstem Als Thermalfeld Material

Kuerz Beschreiwung:

Porös Tantalkarbid gëtt haaptsächlech fir Gasphase Komponent Filtratioun benotzt, lokal Temperaturgradient upassen, Materialflussrichtung guidéieren, Leckage kontrolléieren, asw. mat ënnerschiddleche Stroumleitung.

Schéckt E-Mail un eis Download als PDF

Produit Detailer

Produit Tags

TaC Beschichtung ass eng Aart Tantalkarbid (TaC) Beschichtung virbereet duerch kierperlech Dampdepositiounstechnologie, et huet déi folgend Charakteristiken:

1. Héich Hardness: TaC Beschichtungshärkeet ass héich, normalerweis kann 2500-3000HV erreechen, ass eng exzellente Hardbeschichtung.

2. Verschleißbeständegkeet: TaC Beschichtung ass ganz verschleißbeständeg, wat effektiv d'Verschleiung an de Schued vu mechanesche Deeler beim Gebrauch reduzéieren.

3. Gutt Héichtemperaturresistenz: TaC Beschichtung kann och seng exzellent Leeschtung ënner héijer Temperaturëmfeld behalen.

4. Gutt chemesch Stabilitéit: TaC Beschichtung huet gutt chemesch Stabilitéit a kann vill chemesch Reaktiounen widderstoen, wéi Säuren a Basen.

碳化钽涂层物理特性物理特性 Kierperlech Eegeschafte vun TaC Beschichtung
密度/ Dicht	14,3 (g/cm³)
比辐射率 / Spezifesch Emissioun	0.3
热膨胀系数 / Thermesch Expansiounskoeffizient	6,3 10^-6/K
努氏硬度/ Hardness (HK)	2000 HK
电阻 / Resistenz	1x10^-5 ohm*cm
热稳定性 / Thermesch Stabilitéit	<2500 ℃
石墨尺寸变化 / Graphite Gréisst Ännerungen	-10-20 Uhr
涂层厚度 / Beschichtungsdicke	≥20um typesche Wäert (35um±10um)

Ningbo VET Energy Technology Co., Ltd ass eng High-Tech Entreprise, déi sech op d'Produktioun a Verkaf vun High-End fortgeschratt Materialien, d'Materialien an d'Technologie inklusiv Grafit, Siliziumkarbid, Keramik, Uewerflächenbehandlung a sou weider konzentréiert. D'Produkter gi wäit an der Photovoltaik, Halbleiter, nei Energie, Metallurgie, asw.

Eis technesch Equipe kënnt aus Top Gewalt Fuerschung Institutiounen, kann méi professionell Material Léisungen fir Iech bidden.

Wëllkomm Iech häerzlech op eis Fabréck ze besichen, loosst eis weider Diskussioun hunn!