Wat ass den Ënnerscheed tëscht PECVD an LPCVD an semiconductor CVD Ausrüstung?

Chemesch Dampablagerung (CVD) bezitt sech op de Prozess fir e festen Film op der Uewerfläch vun engem Silizium ze deposéierenwaferduerch eng chemesch Reaktioun vun enger Gasmëschung. No de verschiddene Reaktiounsbedéngungen (Drock, Virgänger), kann et a verschidden Ausrüstungsmodeller opgedeelt ginn.

Semiconductor CVD Ausrüstung (1)
Fir wat Prozesser ginn dës zwee Apparater benotzt?
PECVD(Plasma Enhanced) Ausrüstung ass déi meescht an am meeschte benotzt, benotzt an OX, Nitrid, Metallpaart, amorph Kuelestoff, etc .; LPCVD (Low Power) gëtt normalerweis an Nitrid, Poly, TEOS benotzt.
Wat ass de Prinzip?
PECVD - e Prozess dee perfekt Plasma Energie an CVD kombinéiert. PECVD Technologie benotzt Low-Temperatur Plasma fir Glühfrëndung an der Kathode vun der Prozesskammer (dh Probeschacht) ënner nidderegen Drock ze induzéieren. Dëst Glühwäin oder aner Heizungsapparat kann d'Temperatur vun der Probe op e virbestëmmten Niveau erhéijen, an dann eng kontrolléiert Betrag vu Prozessgas aféieren. Dëse Gas mécht eng Serie vu chemeschen a Plasma Reaktiounen duerch, a bildt endlech e festen Film op der Uewerfläch vun der Probe.

Semiconductor CVD Ausrüstung (1)

LPCVD - Low-Pressure Chemical Vapor Deposition (LPCVD) ass entwéckelt fir den Operatiounsdrock vum Reaktiounsgas am Reaktor op ongeféier 133Pa oder manner ze reduzéieren.
Wat sinn d'Charakteristike vun all eenzel?
PECVD - E Prozess dee perfekt Plasma Energie an CVD kombinéiert: 1) Low-Temperatur Operatioun (evitéieren héich Temperatur Schued un der Ausrüstung); 2) Schnell Filmwachstum; 3) Net picky iwwer Materialien, OX, Nitrid, Metallpaart, amorph Kuelestoff kënnen all wuessen; 4) Et gëtt en in-situ-Iwwerwaachungssystem, deen d'Rezept duerch Ionparameter, Gasflossgeschwindegkeet, Temperatur a Filmdicke upassen kann.
LPCVD - Dënn Filmer, déi vum LPCVD deposéiert sinn, hunn eng besser Schrëttofdeckung, gutt Zesummesetzung a Strukturkontrolle, héich Oflagerungsrate an Ausgang. Zousätzlech erfuerdert LPCVD kee Carrier Gas, sou datt et d'Quell vun der Partikelverschmotzung staark reduzéiert a vill an der Héichwäertege Hallefleitindustrie fir dënn Filmdepositioun benotzt gëtt.

Semiconductor CVD Ausrüstung (3)

 

Wëllkomm Clienten aus der ganzer Welt fir eis fir eng weider Diskussioun ze besichen!

https://www.vet-china.com/

https://www.vet-china.com/cvd-coating/

https://www.vet-china.com/silicon-carbide-sic-ceramic/


Post Zäit: Jul-24-2024
WhatsApp Online Chat!