SiC Coating Graphite MOCVD Wafer Carriers Susceptors

Kurte Danasîn:

VET Energy SiC Coated MOCVD Susceptor for Epitaxial Growth hilberek bi performansa bilind e ku ji bo peydakirina performansa domdar û pêbawer di heyamek dirêj de hatî çêkirin. Ew xwedan berxwedana germê ya super baş û yekrengiya germî, paqijiya bilind, berxwedana erozyona ye, ku ew ji bo serîlêdanên hilberandina waferê çareseriyek bêkêmasî dike.

E-nameyê ji me re bişînin Wekî PDF dakêşin

Detail Product

Tags Product

SiC grafît xêzkirina MOCVD hilgirên/susceptor Wafer

Hemî susceptorên me ji grafît îsostatîkî ya bi hêzek bilind têne çêkirin. Ji paqijiya bilind a grafîtên me sûd werbigirin - bi taybetî ji bo pêvajoyên dijwar ên mîna epitaxy, mezinbûna krîstal, îyonan û pîvazkirina plazmayê, û her weha ji bo hilberîna çîpên LED-ê hatine pêşve xistin.

Taybetmendiyên hilberên me:

1. Berxwedana oksîdasyona germahiya bilind heya 1700℃.
2. Paqijiya bilind û yekdestiya germî
3. Berxwedana korozyonê ya hêja: asîd, alkali, xwê û reagentên organîk.
4. Serhişkiya bilind, rûbera tevlihev, perçeyên hûr.
5. Jiyana karûbarê dirêjtir û bêtir domdar

CVD SiC薄膜基本物理性能 Taybetmendiyên fizîkî yên bingehîn ên CVD SiCrû
性质 / Taybetmendî	典型数值 / Nirxa Tîpîkî
晶体结构 / Structure Crystal	Qonaxa β FCC多晶，主要为（111).
密度 / Density	3,21 g/cm³
硬度 / Serhişkî	2500 维氏硬度 (500 g bar)
晶粒大小 / Grain SiZe	2 ~ 10 μm
纯度 / Paqijiya Kîmyewî	99.99995%
热容 / Kapasîteya germê	640 J·kg^-1·K^-1
升华温度 / Germahiya Sublimation	2700℃
抗弯强度 / Hêza Flexural	415 MPa RT 4-xala
杨氏模量 / Modula Ciwan	430 Gpa 4pt bend, 1300℃
导热系数 / ThermalConductivity	300W·m^-1·K^-1
热膨胀系数 / Berfirehkirina Termal (CTE)	4,5×10^-6K^-1

VET Energy hilberînerê rastîn ê hilberên grafît û silicon carbide yên xwerû ye ku bi pêlên cihêreng ên mîna pêlava SiC, pêlava TaC, pêlava karbonê ya şûşî, pêlava karbonê ya pirolîtîk, hwd., dikare parçeyên cihêreng ên xwerû ji bo pîşesaziya nîvconductor û fotovoltaîk peyda bike.

Tîma meya teknîkî ji saziyên lêkolînê yên navxweyî yên top tê, dikare ji we re çareseriyên madî yên profesyoneltir peyda bike.

Em bi domdarî pêvajoyên pêşkeftî pêşdixînin da ku materyalên pêşkeftî peyda bikin, û teknolojiyek patentkirî ya bêkêmasî xebitandine, ku dikare girêdana di navbera xêz û substratê de hişktir bike û ji veqetandinê kêmtir bike.

Bi germî xêrhatina we dikin ku hûn biçin kargeha me, werin em bêtir nîqaş bikin!