PECVD გრაფიტის ვაფლის მხარდაჭერა

მოკლე აღწერა:

შექმნილია სიზუსტისთვის და შესრულებისთვის, VET Energy-ის გრაფიტის ვაფლის საყრდენი იდეალური მასალაა ვაფლის გაფართოებული დამუშავებისთვის, სადაც მაღალი თერმული სტაბილურობა და თანმიმდევრული შესრულება გადამწყვეტია. მიუხედავად იმისა, მუშაობთ ნახევარგამტარულ ვაფლებთან ან სხვა დელიკატურ სუბსტრატებთან, ეს მაღალი ხარისხის გრაფიტის საყრდენი გაზრდის თქვენი პროცესის საიმედოობას და პროდუქტის ხარისხს, რაც მას შეუცვლელ კომპონენტად აქცევს თანამედროვე წარმოებისთვის.

გამოგვიგზავნეთ ელ.წერილი ჩამოტვირთეთ როგორც PDF

პროდუქტის დეტალი

პროდუქტის ტეგები

VET Energy PECVD პროცესის გრაფიტის ვაფლის საყრდენი არის ძირითადი სახარჯო მასალა, რომელიც შექმნილია PECVD (პლაზმის გაძლიერებული ქიმიური ორთქლის დეპონირების) პროცესისთვის. ეს პროდუქტი დამზადებულია მაღალი სისუფთავის, მაღალი სიმკვრივის გრაფიტის მასალისგან, შესანიშნავი მაღალი ტემპერატურის წინააღმდეგობით, კოროზიის წინააღმდეგობით, განზომილებიანი სტაბილურობით და სხვა მახასიათებლებით, შეუძლია უზრუნველყოს სტაბილური დამხმარე პლატფორმა PECVD პროცესისთვის, რათა უზრუნველყოს ფილმის დეპონირების ერთგვაროვნება და სიბრტყე.

VET Energy გრაფიტის ვაფლის საყრდენის "გრაფიტის დამხმარე" დიზაინს შეუძლია არა მხოლოდ ეფექტურად მხარი დაუჭიროს ვაფლს, არამედ უზრუნველყოს თერმული სტაბილურობა მაღალი ტემპერატურისა და მაღალი წნევის PECVD გარემოში, პროცესის სტაბილურობის უზრუნველსაყოფად.

VET Energy PECVD პროცესის გრაფიტის ვაფლის მხარდაჭერას აქვს შემდეგი მახასიათებლები:

▪მაღალი სისუფთავე:უკიდურესად დაბალი მინარევების შემცველობა, თავიდან აიცილოთ ფილმის დაბინძურება, რათა უზრუნველყოთ ფილმის ხარისხი.

▪მაღალი სიმკვრივე:მაღალი სიმკვრივე, მაღალი მექანიკური სიმტკიცე, შეუძლია გაუძლოს მაღალ ტემპერატურას და მაღალი წნევის PECVD გარემოს.

▪კარგი განზომილებიანი სტაბილურობა:მცირე განზომილებიანი ცვლილებები მაღალ ტემპერატურაზე პროცესის სტაბილურობის უზრუნველსაყოფად.

▪შესანიშნავი თბოგამტარობა:ეფექტურად გადასცემს სითბოს ვაფლის გადახურების თავიდან ასაცილებლად.

▪ძლიერი კოროზიის წინააღმდეგობა:შეუძლია წინააღმდეგობა გაუწიოს ეროზიას სხვადასხვა კოროზიული გაზებისა და პლაზმის მიერ.

▪მორგებული სერვისი:სხვადასხვა ზომის და ფორმის გრაფიტის საყრდენი მაგიდები შეიძლება მორგებული იყოს მომხმარებლის საჭიროებებზე.

გრაფიტის მასალა SGL-დან:

ტიპიური პარამეტრი: R6510
ინდექსი	ტესტის სტანდარტი	ღირებულება	ერთეული
მარცვლის საშუალო ზომა	ISO 13320	10	მმ
ნაყარი სიმკვრივე	DIN IEC 60413/204	1.83	გ/სმ³
ღია ფორიანობა	DIN66133	10	%
ფორების საშუალო ზომა	DIN66133	1.8	მმ
გამტარიანობა	DIN 51935	0.06	სმ²/წმ
როკველის სიმტკიცე HR5/100	DIN IEC60413/303	90	HR
სპეციფიური ელექტრული წინაღობა	DIN IEC 60413/402	13	μΩm
მოქნილობის სიმტკიცე	DIN IEC 60413/501	60	მპა
კომპრესიული ძალა	DIN 51910	130	მპა
იანგის მოდული	DIN 51915	11,5×10³	მპა
თერმული გაფართოება (20-200℃)	DIN 51909	4.2X10^-6	K^-1
თბოგამტარობა (20℃)	DIN 51908	105	Wm^-1K^-1

ის სპეციალურად შექმნილია მზის უჯრედების მაღალი ეფექტურობის წარმოებისთვის, G12 დიდი ზომის ვაფლის დამუშავების მხარდაჭერით. გადამზიდის ოპტიმიზებული დიზაინი მნიშვნელოვნად ზრდის გამტარუნარიანობას, რაც საშუალებას იძლევა უფრო მაღალი მოსავლიანობის მაჩვენებლები და დაბალი წარმოების ხარჯები.

ელემენტი	ტიპი	ნომრის ვაფლის გადამზიდავი
PEVCD Grephite ნავი - 156 სერია	156-13 გრეფიტის ნავი	144
	156-19 გრეფიტის ნავი	216
	156-21 გრეფიტის ნავი	240
	156-23 გრაფიტის ნავი	308
PEVCD Grephite ნავი - 125 სერია	125-15 გრეფიტის ნავი	196
	125-19 გრეფიტის ნავი	252
	125-21 გრფიტის ნავი	280