ეპიტაქსიალური ეპი გრაფიტის ლულის სუსცეპტორი

ეპიტაქსიალური ეპი გრაფიტის ლულის სუსცეპტორი

ეპიტაქსიალური ეპი გრაფიტის ლულის სუსცეპტორიარის სპეციალურად შექმნილი საყრდენი და გამათბობელი მოწყობილობა, რომელიც გამოიყენება ნახევარგამტარული სუბსტრატების შესანარჩუნებლად და გასათბობად წარმოების პროცესების დროს, როგორიცაა დეპონირების ან ეპიტაქსიის პროცესები.

მისი სტრუქტურა მოიცავს, როგორც წესი, ცილინდრულ ან ოდნავ ლულის ფორმას, ზედაპირს აქვს მრავალი ჯიბე ან პლატფორმა ვაფლის დასაყენებლად, შეიძლება იყოს მყარი ან ღრუ დიზაინი, გათბობის მეთოდის მიხედვით.

ეპიტაქსიალური ლულის მგრძნობელობის ძირითადი ფუნქციები:

-სუბსტრატის საყრდენი: საიმედოდ უჭირავს რამდენიმე ნახევარგამტარული ვაფლი;
-სითბოს წყარო: უზრუნველყოფს ზრდისთვის საჭირო მაღალ ტემპერატურას გათბობის გზით;
-ტემპერატურული ერთგვაროვნება: უზრუნველყოფს სუბსტრატების ერთგვაროვან გათბობას;
-როტაცია: ჩვეულებრივ ბრუნავს ზრდის დროს ტემპერატურისა და გაზის განაწილების ერთგვაროვნების გასაუმჯობესებლად.

Epi გრაფიტის ლულის დამჭერის მუშაობის პრინციპი:
- ეპიტაქსიალურ რეაქტორში ლულის მგრძნობელობა თბება საჭირო ტემპერატურამდე (როგორც წესი, 1000℃-1200℃ სილიციუმის ეპიტაქსიისთვის);
-ლულის სუსცეპტორი ბრუნავს ტემპერატურის ერთგვაროვანი განაწილებისა და გაზის ნაკადის უზრუნველსაყოფად;
-რეაქციის გაზები იშლება მაღალ ტემპერატურაზე, ქმნიან ეპიტაქსიურ ფენებს სუბსტრატის ზედაპირზე.

აპლიკაციები:
-ძირითადად გამოიყენება სილიციუმის ეპიტაქსიალური ზრდისთვის
-ასევე გამოიყენება სხვა ნახევარგამტარული მასალების ეპიტაქსიისთვის, როგორიცაა GaAs, InP და ა.შ.

VET Energy იყენებს მაღალი სისუფთავის გრაფიტს CVD-SiC საფარით ქიმიური სტაბილურობის გასაძლიერებლად:

VET Energy Epitaxial Epi Graphite Barrel Susceptor-ის უპირატესობები:

-მაღალი ტემპერატურის სტაბილურობა;
-კარგი თერმული ერთგვაროვნება;
- შეუძლია რამდენიმე სუბსტრატის ერთდროულად დამუშავება, რაც აუმჯობესებს წარმოების ეფექტურობას;
-ქიმიურად ინერტული, მაღალი სისუფთავის ზრდის გარემოს შენარჩუნება.