CVD-SiClapisan nduweni karakteristik struktur seragam, materi kompak, resistance suhu dhuwur, resistance oksidasi, kemurnian dhuwur, resistance asam & alkalin lan reagen organik, karo sifat fisik lan kimia stabil.

Dibandhingake karo bahan grafit kemurnian dhuwur, grafit wiwit ngoksidasi ing 400C, sing bakal nyebabake mundhut bubuk amarga oksidasi, nyebabake polusi lingkungan menyang piranti periferal lan ruang vakum, lan nambah impurities lingkungan kemurnian dhuwur.

Nanging, lapisan SiC bisa njaga stabilitas fisik lan kimia ing 1600 derajat, Kang digunakake digunakake ing industri modern, utamané ing industri semikonduktor.

Perusahaan kita nyedhiyakake layanan proses lapisan SiC kanthi metode CVD ing permukaan grafit, keramik lan bahan liyane, supaya gas khusus sing ngemot karbon lan silikon bereaksi ing suhu dhuwur kanggo entuk molekul SiC kemurnian dhuwur, molekul sing disimpen ing permukaan bahan sing dilapisi, mbentuk lapisan protèktif SIC. SIC kawangun wis kuwat kaiket ing basa grafit, menehi dhasar grafit sifat khusus, mangkono nggawe lumahing grafit kompak, Porosity-free, resistance suhu dhuwur, resistance karat lan resistance oksidasi.

Fitur utama:

1. Resistance oksidasi suhu dhuwur:

resistensi oksidasi isih apik banget nalika suhu nganti 1600 C.

2. Kemurnian dhuwur: digawe dening deposition uap kimia ing kondisi chlorination suhu dhuwur.

3. Erosi resistance: atose dhuwur, lumahing kompak, partikel nggoleki.

4. Resistance korosi: reagen asam, alkali, uyah lan organik.

Spesifikasi Utama Lapisan CVD-SIC: