炭化ケイ素セラミックコーティングヒーター

簡単な説明:

中国の炭化ケイ素セラミックコーティングの専門メーカーおよびサプライヤーとして、Vet-China の炭化ケイ素セラミックコーティングは、特に CVD および PECVD プロセスが関与する場合、半導体製造装置の主要コンポーネントに広く使用されています。 Vet-China は、高性能炭化ケイ素セラミック コーティングの製造と供給を専門とし、半導体業界に高度な技術と製品ソリューションを提供することに尽力しています。お問い合わせを歓迎します。


製品詳細

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獣医-中国炭化ケイ素セラミックコーティングは非常に硬く耐摩耗性に優れた高性能保護コーティングです。炭化ケイ素(SiC)優れた耐化学腐食性と高温安定性を備えた材料です。これらの特性は半導体製造において非常に重要であるため、炭化ケイ素セラミックコーティング半導体製造装置の主要部品に広く使用されています。

Vet-China の具体的な役割炭化ケイ素セラミック半導体製造におけるコーティングは次のとおりです。

装備の耐久性を強化:炭化ケイ素セラミックコーティング 炭化ケイ素セラミックコーティングは、非常に高い硬度と耐摩耗性により、半導体製造装置の優れた表面保護を実現します。特に、化学蒸着 (CVD) やプラズマ エッチングなどの高温で腐食性の高いプロセス環境において、コーティングは機器の表面が化学的浸食や物理的磨耗によって損傷するのを効果的に防止し、それによって機器の耐用年数を大幅に延長します。機器を保護し、頻繁な交換や修理によって生じるダウンタイムを削減します。

プロセスの純度を向上させる:半導体の製造工程では、微小な汚れが製品不良の原因となることがあります。炭化ケイ素セラミック コーティングの化学的不活性により、極端な条件下でも安定した状態を維持でき、材料からの粒子や不純物の放出が防止され、プロセスの環境純度が確保されます。これは、PECVD やイオン注入など、高精度と高清浄度が必要な製造工程では特に重要です。

熱管理を最適化します。急速熱処理(RTP)や酸化プロセスなどの高温半導体プロセスでは、炭化ケイ素セラミックコーティングの高い熱伝導率により、装置内の均一な温度分布が可能になります。これにより、温度変動による熱応力や材料の変形が軽減され、製品の製造精度と一貫性が向上します。

複雑なプロセス環境をサポートします。ICP エッチングや PSS エッチングプロセスなど、複雑な雰囲気制御が必要なプロセスでは、炭化ケイ素セラミックコーティングの安定性と耐酸化性により、装置が長期稼働でも安定した性能を維持し、材料の劣化や腐食による装置の損傷のリスクが軽減されます。環境の変化に。

炭化ケイ素セラミックコーティング
グラファイトヒーター (4)

CVD SiC膜の基本物理性能

CVD SiCの基本物性コーティング

性质 / 財産

典型的な数値 / 代表値

結晶構造 / 結晶構造

FCC βフェーズ多結晶、主である(111)取向

密度 / 密度

3.21 g/cm3

硬度 / 硬度

2500维度硬度(500g荷重)

結晶粒大小 / 粒度

2~10μm

/ 化学純度

99.99995%

熱容 / 熱容量

640J・kg-1・K-1

昇华温度 / 昇華温度

2700℃

抗强度 / 曲げ強度

415MPa RT 4点

杨氏模量 / ヤング率

430 Gpa 4pt曲げ、1300℃

导熱系数 / テルマ導電率

300W・m-1・K-1

熱膨張胀系数 / 熱膨張(CTE)

4.5×10-6K-1

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