ニュース

再結晶炭化ケイ素とは
管理者による 2004 年 9 月 23 日
再結晶炭化ケイ素は優れた特性を備えた革新的な素材です。優れた機械的特性と高い耐食性を有しており、航空宇宙、軍事などの分野で幅広い用途に使用されています。まず第一に、再結晶炭化ケイ素は優れた機械特性を持っています。
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炭化ケイ素コーティングとは
管理者による、2002 年 9 月 23 日
炭化ケイ素コーティングとは、物理的または化学蒸着、スプレーなどの方法によって部品の表面に SIC コーティングを施すことを指します。 SiCは、高融点、高硬度、耐食性、耐酸化性などの優れた物理的および化学的特性を持っています。
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大気圧焼結炭化珪素の6つのメリットと炭化珪素セラミックスの応用
管理者による、2002 年 9 月 23 日
大気圧焼結炭化ケイ素は、もはや研磨材としてだけでなく、新素材として使用されており、炭化ケイ素材料で作られたセラミックスなどのハイテク製品に広く使用されています。それでは、大気圧焼結炭化ケイ素の 6 つの利点とその利点は何ですか?
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窒化ケイ素 – 最高の総合性能を備えた構造用セラミックス
管理者による 23-08-15
特殊セラミックスとは、特殊な機械的、物理的、化学的特性を備えたセラミックスを指し、使用される原料や必要な製造技術は通常のセラミックスとは大きく異なり、開発も異なります。特性や用途に応じて、特殊なセラミックスを製作することができます。
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ジルコニアセラミックスの特性に対する焼結の影響
管理者による 23-08-15
ジルコニウムはセラミック材料の一種で、高強度、高硬度、優れた耐摩耗性、耐酸性、耐アルカリ性、耐高温性などの優れた特性を持っています。産業分野で広く使用されていることに加えて、義歯産業の活発な発展に伴い...
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半導体部品 – SiC コーティングされたグラファイトベース
管理者による 2004 年 8 月 23 日
SiC コーティングされたグラファイトベースは、有機金属化学気相成長 (MOCVD) 装置で単結晶基板を支持および加熱するために一般的に使用されます。 SiC コーティングされたグラファイトベースの熱安定性、熱均一性、その他の性能パラメータは、エピタキシャル層の品質に決定的な役割を果たします。
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なぜ半導体チップとしてシリコンを使うのでしょうか?
管理者による 23-07-31
半導体は、室温での電気伝導率が導体と絶縁体の中間である材料です。日常生活における銅線と同様に、アルミニウム線は導体であり、ゴムは絶縁体です。導電性の観点から: 半導体とは導電性を指します。
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ジルコニアセラミックスの特性に対する焼結の影響
管理者による 23-07-24
ジルコニアセラミックスの特性に及ぼす焼結の影響ジルコニウムはセラミック材料の一種として、高強度、高硬度、優れた耐摩耗性、耐酸性および耐アルカリ性、耐高温性などの優れた特性を持っています。産業分野で広く使用されているだけでなく、...
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半導体部品 – SiC コーティングされたグラファイトベース
管理者による 23-07-24
SiC コーティングされたグラファイトベースは、有機金属化学気相成長 (MOCVD) 装置で単結晶基板を支持および加熱するために一般的に使用されます。 SiC コーティングされたグラファイトベースの熱安定性、熱均一性、その他の性能パラメータは、エピタキシャル層の品質に決定的な役割を果たします。
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