炭化ケイ素セラミック製品: 半導体産業の重要な部分

熱管理:

半導体製造プロセスでは、高温の熱管理が非常に重要です。炭化ケイ素セラミック熱伝導性と熱安定性に優れており、熱を効果的に伝導・分散します。これらは、デバイスの温度を制御および維持し、その性能と信頼性を向上させるために、半導体デバイスのヒートシンク、ヒートシンク、ベースとしてよく使用されます。

化学的不活性度:
炭化ケイ素セラミック製品は化学的不活性性に優れ、多くの化学物質や腐食性ガスに対して高い耐性を持っています。半導体産業では、洗浄、腐食、コーティングのプロセスで多くの化学物質やガスが使用されるため、これらの過酷な環境に耐えられる材料が必要です。炭化ケイ素セラミック製品は化学的に不活性であるため、腐食や化学的侵食に耐えるのに理想的な選択肢となります。

機械的強度:
半導体の製造および取り扱いにおいては、圧力や摩耗に耐えるための機械的強度と耐摩耗性が不可欠です。炭化ケイ素セラミック製品は機械的強度と硬度に優れ、高圧や摩耗に耐えることができます。これらは、半導体コンポーネントを外部応力や損傷から保護するための固定具、カバー プレート、および支持構造としてよく使用されます。

断熱特性:
半導体製造では、電流漏れや電気的故障を防ぐために電気絶縁特性が重要です。炭化ケイ素セラミック製品は優れた絶縁特性を備えており、電流の流れを効果的に遮断できます。これらは、電子機器の信頼性と安全性を確保するための絶縁ライナー、電気アイソレーター、シールとしてよく使用されます。

清潔さ:
半導体産業におけるクリーンな環境に対する要求は非常に高いです。炭化ケイ素セラミック製品は優れた洗浄性能を持ち、有害な物質を放出したり粒子を生成したりしません。掃除やメンテナンスが簡単で、製造環境の清浄度を維持し、半導体製造プロセスへの汚染のリスクを軽減します。