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よく運営されたツール、専門の利益担当者、そしてはるかに優れたアフターセールス製品とサービス。私たちは主要な配偶者と子供たちも団結しており、全員が会社の福利厚生である「団結、献身、寛容」に固執しています。中国 耐火物セラミックスおよびセラミック窯、特定の顧客の要求に応えるために、より完璧なサービスと安定した品質の商品を提供します。私たちは世界中のお客様の訪問を温かく歓迎し、多面的な協力により、共同で新しい市場を開拓し、輝かしい未来を創造します。
SiCコーティング/半導体用グラファイト基板コーティング サセプタは、熱処理中に半導体ウェーハを保持し、加熱します。サセプタは、誘導、伝導、および/または放射によってエネルギーを吸収し、ウェーハを加熱する材料でできています。その耐熱衝撃性、熱伝導率、純度は急速熱処理 (RTP) にとって重要です。特定の熱的および化学的環境に応じて、炭化ケイ素でコーティングされたグラファイト、炭化ケイ素 (SiC)、およびケイ素 (Si) がサセプターに一般的に使用されます。 PureSiC® CVD SiC および ClearCarbon™ 超高純度素材で、優れた熱安定性、耐食性、耐久性を実現します。 製品説明
半導体用途向けのグラファイト基板の SiC コーティングにより、優れた純度と酸化性雰囲気に対する耐性を備えた部品が得られます。
CVD SiC または CVI SiC は、単純または複雑な設計部品のグラファイトに適用されます。コーティングはさまざまな厚さで、非常に大きな部品に適用できます。
テクニカル セラミックは、RTP (急速熱処理)、Epi (エピタキシャル)、拡散、酸化、アニーリングなどの半導体熱処理用途には当然の選択肢です。 CoorsTek は、熱衝撃に耐えるように特別に設計された高度な材料コンポーネントを提供し、高純度で頑丈で、高温でも再現可能な性能を備えています。
特徴：
・優れた耐熱衝撃性
・優れた耐物理衝撃性
・優れた耐薬品性
・超高純度
· 複雑な形状でも利用可能
・酸化性雰囲気下でも使用可能
応用：
ウェーハは、電子デバイスで使用できるようになるまでに、いくつかのステップを通過する必要があります。重要なプロセスの 1 つはシリコン エピタキシーです。このプロセスでは、ウエハーはグラファイト サセプター上に運ばれます。サセプタの特性と品質は、ウェーハのエピタキシャル層の品質に重大な影響を与えます。
ベースグラファイト材料の典型的な特性:
| 見掛け密度: | 1.85g/cm3 |
| 電気抵抗率: | 11μΩm |
| 曲げ強度: | 49MPa(500kgf/cm2) |
| ショア硬度: | 58 |
| 灰： | <5ppm |
| 熱伝導率: | 116 W/mK (100 kcal/mhr-℃) |
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